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Cambridge NanoTech Supplies 40. Fidschi Plasma ALD-System

Published on June 24, 2011 at 2:39 AM

Durch Cameron Chai

Cambridge NanoTech ist das Angebot an ihren 40. Fidschi Plasma Atomic Layer Deposition (ALD)-System erklärt. ALD ist in Technologien wie Beleuchtungs-und Displaytechnologie, Energiespeicherung, und der Mikroelektronik eingesetzt.

Cambridge NanoTech ist bestrebt, ALD Industrialisierung und Forschung zu verbessern. Im Jahr 2009 stellte die Firma den Fidschi-System für die Bereitstellung außergewöhnlicher Flexibilität und einfache Handhabung in experimentellen Prozessen. Plasma ALD-Tool ist apt für Wissenschaftler und Forscher bei der Herstellung von ultra-dünnen Schichten, die digital angesteuert werden engagiert, Pin-Loch frei, dicht, und sehr genau.

Die Firma Plasma-ALD-System ist für die Verarbeitung von mehreren Nitride, Oxide, Metalle wie Platin, Titan-Nitrid-und andere Materialien geeignet. Erhalten Plasma Rezepte bieten deutlich niedrigeren Temperaturen für Platinabscheidung und weniger Widerstand von Titannitrid.

Laut Laurent Francis, Vorsitzender Microsystems für UCL, um die Forschung an der Université catholique de Louvain (UCL) sie für High-k-konforme dünnen Schichten bei Raumtemperatur hinterlegt suchten befragen. Cambridge NanoTech hatte mit einem gut entwickelten Tool ermöglicht eine breite Palette von der Materialauswahl bis die Forschungsarbeit weiter aufzuwerten. Cambridge NanoTech gemacht Unterstützung Fidschi F200 Werkzeug-und ALD-Technik an der UCL installieren.

Die Fidschi-ALD-System ermöglicht Forschern die Materialien bei unterschiedlichen Bedingungen, wie hohen und niedrigen Temperaturen Kaution, schlug Jill S. Becker, Präsident und Gründer von Cambridge NanoTech. Das System bietet einige zusätzliche Features wie ein Cluster-Modul für die Automatisierung Integration, eine hohe Temperatur-Modul zum Testen von Proben bis zu 800 ° C und einem Wafer plus Modul für große Proben, fügte er hinzu.

Quelle: http://www.cambridgenanotech.com

Last Update: 7. October 2011 03:55

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