Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanoelectronics

Imec 和 Suss 學習 EUV 屏蔽完整性的 MicroTec

Published on July 11, 2011 at 9:28 PM

Imec 今天宣佈它擴展其與 SUSS MicroTec 的研究方案開發很好的途徑到 EUV (極其紫外) 屏蔽完整性。 在記錄協作的屏蔽清潔進程的成功的延長的協作編譯 (POR)在 HamaTech 猿 Gmbh & Co. KG、 SUSS MicroTec 一個全部擁有輔助和 imec 之間的,在 2009年開始。

在很好的運輸和存貯期間,這研究的變寬的範圍將著重屏蔽潔淨。 一個整體屏蔽管理系統的發展將提供使用 EUV 石版印刷,對蜜餞屏蔽完整性前期對風險的一個複雜的途徑的合作夥伴。

微粒 ADT (PRE) (阿爾法演示工具) 調制盤的後側方的刪除效率 80%。

不同於用於光學制版今天的光掩膜, EUV 屏蔽不會有 pellicle 的保護,使它敏感對微粒和有機汙穢。 將要求一個更高的清洗的頻率緩和薄酥餅損失的風險和產生從屏蔽的被仿造的端的汙穢的損失。 然而,憂慮是在,如果介紹到掃描程序,可能調用到導致嚴重的重疊問題的調制盤鉗位屏蔽的後側方的汙穢。 要清洗調制盤请夾緊掃描程序將需要廣泛的停機在嚴重的費用對半導體製造商。

使用 SUSS MaskTrack 讚成光掩膜清潔系統,在最後一年期間, imec 的屏蔽清潔程序到達了在 (PORs)記錄的進程的發展的重大的重要事件 EUV 屏蔽清潔的,在 2009年在 imec 的 300mm 潔淨室被安裝。 被開發的 PORs 是有效的在取消汙穢利益,是足够柔和的重複適用,无需減少屏蔽壽命。 EUV 調制盤後側方清潔進程的調查和優化,不影響前側,在 Spec. Imec 被開發并且被展示保留 EUV 掃描程序的重疊性能達到 ADT (阿爾法 (PRE)演示工具) 調制盤的後側方的微粒刪除效率 80%。 到達 a 我們需要避免處理造成的人工製品的前 100%,運輸和存貯。 所以,一個受控屏蔽管理環境從屏蔽進入很好在屏蔽的整個壽命中的時間是必要的。 使用 SUSS MaskTrack 讚成 InSync (InSync) 很好的屏蔽管理系統,正確地此保證是我們的變寬的研究範圍的主要觸發器往完全地自動化的處理最近安裝的 NXE-3100 的。

InSync 被設計滿足最嚴格的 EUV 屏蔽完整性需求前期對風險。 獨有的 InSync 提供一個高度受控環境給自動地調用 EUV 屏蔽到 [和在外面] 雙重莢,消滅汙穢的風險從人力裝卸和調用。 重要內在莢可以存儲在 InSync 環境裡面。 功能作為 loadport, InSync 可能接受調制盤雙重莢直接地從調用的掃描程序到 MaskTrack 讚成清潔工具。 InSync 為屏蔽完整性基礎設施的更加進一步的發展將提供這個基礎在 imec。

寇特 Ronse,節目主持人提前石版印刷在 imec 說, 「我們的目標提供提供無瑕疵的屏蔽在點風險的 EUV 基礎設施,未更改。 在我們的重要進展的大廈在屏蔽清潔,我們被激發擴展我們的研究的範圍提供一個整體屏蔽管理系統。 MaskTrack 讚成 InSync 和我們持續的合作研究工作的安裝與 SUSS Microtech 為 EUV 技術的推進提供於屏蔽完整性和資源集中的一個國際水平的小組」。

「我們是非常喜悅繼續我們的與 imec 的協作在下一代石版印刷的 EUV 屏蔽完整性基礎設施」,弗蘭克 P. Averdung, SUSS AG MicroTec 的總裁兼 CEO 說。 「MaskTrack 讚成 InSync,是在一個充分控制環境裡可能自動地協調與唯一 EUV 雙重莢可用的唯一的屏蔽的管理系統。 設計使 EUV 屏蔽清潔,調用成群,并且存貯在一個原始環境裡, InSync 提供一個整體途徑給屏蔽管理在屏蔽的壽命中」。

Last Update: 26. January 2012 21:32

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit