Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

Angewandte Materialien Stellt PECVD-Film-Technologie für Bildschirmanzeige-Hersteller vor

Published on March 21, 2012 at 5:27 AM

Durch Cameron Chai

Angewandte Materialien hat eine neues Plasma erhöhte chemische Bedampfenfilm (PECVD)technologie für die Herstellung von hochauflösenden, leistungsstarken Bildschirmanzeigen für zukünftige Fernsehen und von Tablettencomputern vorgestellt.

Der neue AKT-PECVD Film lässt die Nutzung von Metall-Oxid-basierten Transistoren, die kleines erzeugen, Schnellschaltung Pixel hochauflösende Bildschirme produzieren. Der hoch entwickelte isolierende Film erhöht die Stabilität von Metalloxidtransistoren und entbindet verbesserte Bildschirmleistung, indem er eine Nichtleiterschicht Schnittstelle für Transistoren anbietet, die Wasserstoffverunreinigungen verringert.

Angewandte Materialien' AKT-PECVD Anlage kann diese Überlegenqualität Siliziumoxidfilme mit hoher Genauigkeit auf den Glasblättern gleichmäßig abgeben, die eine Größe von bis 9 M. haben.2 Diese Fähigkeit ist die Taste, zum von niedrigen Produktionskosten und von hohen Industrieproduktionen zu erhalten.

Außer seinen Filmen des Romans PECVD entwickelt Angewandte Materialien aktuell hoch entwickelte PVD-Lösungen wie IGZO-Absetzung für Metalloxidproduktion. Seine neueste Drehkathodenreihentechnologie Verwendend, demonstriert die Firma die Absetzung des Niedrigdefektes, die homogenen aktiven Schichten mit wenig Materialien und höheren Durchsatz, wenn sie mit existierenden PVD-Lösungen verglichen wird.

Nach Ansicht Toms Edman, Gruppen-Vizepräsidenten und Generaldirektor für AKT-Bildschirmanzeige-Geschäftsgruppe an Angewandten Materialien, sind- die Investitionen, die durch Bildschirmanzeigehersteller in der Metalloxid-Transistorfähigkeit gemacht werden, ständig steigend, und die fortgeschrittenen das PECVD-Filme der Firma reißen die Sperre nieder, wenn sie diese Schlüsseltechnologie ausfahren, indem sie die Stabilitäts- und Einheitlichkeitspunkte der komplexen dielektrischen Filme anpacken. Die Firma hat einen schnellen und preiswerten Anflug für das Holen dieser Technologie zum Markt angeboten, indem sie die Funktionalitäten seiner AKT-PECVD Anlage für dielektrische Filmabsetzung für Metalloxidtransistoren ausdehnte.

Quelle: http://www.appliedmaterials.com

Last Update: 21. March 2012 06:49

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit