Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

De Studie NIST Bewijst Thermische Stabiliteit van nanometer-Dikke Films voor Organische Elektronika

Published on April 19, 2012 at 3:25 AM

Door Cameron Chai

Een onderzoeksteam van het Nationale Instituut van Normen en Technologie (NIST) heeft een internationaal onderzoeksteam helpen om de stabiliteit van een uiterst dun membraan te verifiëren gebruikend de spectroscopie van de de absorptie fijn-structuur van de dichtbijgelegen-randRöntgenstraal (NEXAFS).

Het uiterst dunne membraan dat door het internationale onderzoeksteam wordt ontwikkeld kan als zeer belangrijke component voor een nieuwe klasse van flexibele, steriliseerbare organische elektronika voor gebruik in medische toepassingen worden gebruikt. Het team wordt geleid door wetenschappers van de Universiteit van Tokyo, met leden van de Universiteit Princeton, de Universiteit van Hiroshima, het Agentschap van de Wetenschap van Japan en van de Technologie, het Max Planck Institute voor Onderzoek In Vaste Toestand en Nippon Kayaku, een in Tokyo-Gebaseerd bedrijf.

Het internationale onderzoeksteam heeft een innovatief poortmateriaal ontwikkeld dat sterilisatie op hoge temperatuur van organische transistors toelaat, waarbij hen geschikt wordt gemaakt voor medische toepassingen zoals zachte hartstimulators en inplanteerbare apparaten. Dit poortmateriaal assembleert zich in uiterst dunne één enkele laag strak ingepakte lineaire molecules die bij een kleine hoek aan de oppervlakte assembleren. Het team informeerde dat dit zelf-geassembleerde (SAM) monolayer de dikte neer aan 2 NM kan zijn.

De Structurele metingen van SAM werden bij de NIST low-energy Röntgenstraallijn uitgevoerd die bij de Nationale Lichtbron van het Synchotron in New York wordt gevestigd. De Steekproeven van de uiterst dunne film van vroeger en na thermische behandeling werden op beamline NIST getest die techniek NEXAFS gebruikt om de thermische stabiliteit en de moleculaire richtlijn van de film te meten.

De techniek NEXAFS kan chemische banden aan de oppervlakte en binnen de steekproef ontdekken. Bijvoorbeeld, kan het de ongelijkheid tussen één enkele koolstofband en een dubbele koolstofband binnen een molecule tonen. De metingen NEXAFS bewezen dat de uiterst dunne films van SAM hun integriteit en stabiliteit zelfs bij temperaturen boven 150°C. konden handhaven.

Bron: http://www.nist.gov

Last Update: 19. April 2012 04:41

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit