Ordini del Posto dei Membri di Associazione di EMI di SEMATECH per Strumenti di OBIETTIVI EUV di Carl Zeiss'

Published on April 27, 2012 at 2:19 AM

Da Cameron Chai

Conformemente alle loro assegnazioni dello slot, due società del membro dell'Associazione di EMI di SEMATECH che comprende TSMC, Samsung Electronics, Intel e GLOBALFOUNDRIES hanno ordinato per comprare lo strumento di OBIETTIVI EUV, una soluzione aerea attinica della metrologia di immagine da Divisione di Sistemi della Metrologia A Semiconduttore (SMS) di Carl Zeiss.

Carl Zeiss SMS ha collaborato con dipartimento dell'ottica dello scanner dell'Ottica, di Carl Zeiss SMT della Litografia e partner esterni nello sviluppo dello strumento di OBIETTIVI EUV. L'Amministratore Delegato di Carl Zeiss SMS importante', il Dott. Oliver Kienzle ha specificato che questi ordini sono un punto di riferimento nell'avanzamento dello strumento di OBIETTIVI EUV e sottolinea il significato della tecnologia di EUV nell'industria. La società prevede gli ordini dalle società restanti del membro secondo le loro assegnazioni dello slot firmate durante il lancio del consorzio di EMI.

Lo strumento di OBIETTIVI EUV è una piattaforma chiave per fabbricare le maschere senza difetti di EUVL per i 22 bisogni di vertice della tecnologia del mezzo passo di nanometro, con scalabilità al vertice della tecnologia del mezzo passo di 16 nanometro. Il primo modello produzione-degno della piattaforma si pensa che consegni nel Q3 di 2014.

Nel 2010, SEMATECH aveva installato la EMI per sviluppare gli strumenti chiave della metrologia con il finanziamento per avanzare EUV nel campo di produzione della maschera. La EMI è gestita dal Programma della Litografia di SEMATECH, che è basato all'Università all'Istituto Universitario di Albany di Scienza e di Assistenza Tecnica di Nanoscale.

SEMATECH ha iniziato il progetto chiave della EMI prima firmando un affare di associazione con Carl Zeiss per mettere a punto e fabbricare il sistema aereo attinico primo de suo gentile della metrologia EUV di immagine per fabbricazione in serie di EUVL.

Sorgente: http://www.zeiss.com

Last Update: 27. April 2012 03:25

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