Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Medlemmar för SEMATECH-EMI-Partnerskap Förlägger Beställer för Carl Zeiss' SYFTEN som EUV Bearbetar

Published on April 27, 2012 at 2:19 AM

Vid Cameron Chai

I överensstämmelse med deras springauppgifter har två medlemföretag av SEMATECH-EMI-Partnerskap som består av TSMC, Samsung Electronics, Intel och GLOBALFOUNDRIES, förlagt beställer köpSYFTEN som EUV bearbetar, en actinic antenn avbildar metrologylösningen från Uppdelning för System för Carl Zeiss Halvledare (SMS)Metrology.

Carl Zeiss SMS har teamed upp med LithographyOptik, avdelning för Carl Zeiss SMTS bildläsaroptik, och utsidan blir partner med i utvecklingen av SYFTENA som EUV bearbetar. Carl den Zeiss SMS' Disponenten, Dr. Oliver Kienzle påstod att dessa beställer är en ha som huvudämnelandmark i befordran av SYFTENA som EUV bearbetar och betonar signifikansen av EUV-teknologi i branschen. Företaget förutser beställer från de resterande medlemföretagen enligt deras springauppgifter som undertecknas under barkassen av EMI-konsortiet.

SYFTENA EUV bearbetar är en nyckel- plattform till tillverkning som hoppa av-fri EUVL maskerar för de 22 behoven för knutpunkten för nm-halva-graden teknologi, med möjlighet att bestiga till för halva-graden för 16 nm knutpunkten teknologi. Denvärdiga plattformen första modellerar förväntas att levereras i Q3en av 2014.

I 2010 hade SEMATECH att ställa in EMI för att framkalla nyckel- metrology bearbetar till och med finansiering, för att som för- EUV i maskeraproduktionen sätter in. EMI klaras av av SEMATECHS LithographyProgramet, som baseras på Universitetar på Albanys Högskola av Nanoscale Vetenskap och att Iscensätta.

Projekterar nyckel- initierade EMI för SEMATECH först, genom att underteckna ett partnerskapavtal med Carl Zeiss för att framkalla, och tillverkning första-av-dess-sorten den actinic antennen avbildar systemet för metrology EUV för samlas produktion av EUVL.

Källa: http://www.zeiss.com

Last Update: 27. April 2012 03:26

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit