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SEMATECH EMI 合夥企業成員卡爾的蔡司位置指令』爭取 EUV 工具

Published on April 27, 2012 at 2:19 AM

卡梅倫柴

與他們的槽分配符合,包括臺灣積體電路製造公司的 SEMATECH EMI 合夥企業的二家成員公司,三星電子、 Intel 和 GLOBALFOUNDRIES 發出訂單採購目標 EUV 工具,從卡爾蔡司半導體計量學系統部的光化空中圖像計量學 (SMS)解決方法。

卡爾蔡司 SMS 與石版印刷光學,卡爾蔡司 SMT 的掃描程序合作光學部門和外部合作夥伴目標 EUV 工具的發展的。 卡爾蔡司 SMS』總經理,奧利佛史東 Kienzle 博士闡明,這些順序是在目標 EUV 工具的推進的一個主要地標并且強調 EUV 技術的意義在這個行業的。 這家公司根據在 EMI 財團的生成期間簽字的他們的槽分配期望從剩餘的成員公司的命令。

目標 EUV 工具是製造 22 毫微米半間距技術節點需要的無瑕疵的 EUVL 屏蔽的一個關鍵平臺,與可縮放性對 16 毫微米半間距技術節點。 平臺的第一個生產值得的設計在 Q3 預計被提供 2014年。

在 2010年, SEMATECH 設置 EMI 通過資助開發關鍵計量學工具為了提前在屏蔽生產域的 EUV。 EMI 由 SEMATECH 的石版印刷程序管理,在 Nanoscale 科學和工程阿爾巴尼的學院的大學根據。

SEMATECH 通過簽署與卡爾蔡司的一個合夥企業交易開發和製造 EUVL 的大量生產的一流的光化空中圖像計量學 EUV 系統啟動了 EMI 的第一關鍵工程。

來源: http://www.zeiss.com

Last Update: 27. April 2012 03:24

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