Ny NanomaterialsTeknik som Framkallar Bättre Elektronik

Published on June 12, 2012 at 7:15 AM

Vid Ska Soutter

Ett forskninglag från det Argonne MedborgareLaboratoriumet av US-Avdelningen av Energi har planerat en ny teknik som är kapabel av drastiskt förhöjning av effektiviteten och att fälla ned kosta av att fabricera olika typer av semiconducting material.

Detta avbildar shows kanaliserar etsat genom att använda sekventiell infiltrationsyntes, som forskare på Argonne har van vid att skapa särdrag, som har kickaspektförhållanden - dvs., dem är långt djupare än brett. Dessa sprickor ska tillstånd skapelsen av en ny utveckling av semiconducting material

Den innovativa tekniken fullgör bestämda nödvändig av kretsschemat för landskamphalvledare`' för 2022. I dagsläget är photolithography van vid gör halvledaren mönstrar, genom selektivt att ta bort delar av ett tunt, filmar. Etsning av en mönstra, också som är bekant som, motstår, in i den joniserade, halvledaren göras, genom att exponera till gasar. Emellertid etsas motstå också bort av denna gasar, således minska reusabilityen av detta filma. Högt hållbart motstår benämnas, som maskerar hårt.

Seth Älskling, en nanoscientist på det Argonne MedborgareLaboratoriumet som informeras att områdeskollapsen är en barriär som fabricerar mindre halvledaredelar. Forskare är stilla inte kompetent att finna en lösning för att avlägsna denna kollaps.

Älsklingen och kollegor planerade en metod som kallades sekventiell infiltrationsyntes (SIS) i 2010. Tekniken växer tuffa oorganiska material inom en mjuk polymer filmar genom att använda gasar. DOEKontoret av Vetenskap stöttade forskningen via denNordvästliga Sol- EnergiForskningscentrat, och Argonnes Centrerar för Nanoscale Material.

SIS undviker bruket av hårt maskerar i photolithography, sade Älsklingen. Detta är en av ha som huvudämnefördelarna av SIS som maskerar hårt är komplext, kick-kostar, mönstrar minskning kvalitets-, och processaa förhöjning kliver. Ha som huvudämne halvledareföretag har redan känt igen SIS som en teknologi som är kapabel av att tilltala olika komplexa utmaningar.

Älsklingen och kollegor visade för en tid sedan SIS-' kapacitet av att avlägsna mönstrar kollaps, och låta produktionen av material med högre aspekt-förhållande mönstrar. Älsklingen påstod att en av de nyckel- gynnar av denna demonstration är möjligheten av att använda SIS för photolithography, ett kritiskt industriellt bearbetar.

Källa: http://www.anl.gov

Last Update: 12. June 2012 07:49

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit