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Bruker 发行半导体计量学的三个新产品在 Semicon 西部 2012年

Published on July 11, 2012 at 4:49 AM

今天在 SEMICON 西方 2012年, Bruker 宣布三新的 450mm X-射线和 AFM 半导体计量学产品支持与更大的薄酥饼生产的行业的转移。 这些新产品包括从 Bruker 的纳诺表面部门的答案450 3DAFM,并且 D8 FABLINE 的下一代和新的 S8 FABLINE-T X射线辐射从 Bruker 的 AXS 部门的系统。 全部三个计量学系统被设计接受行业模式挑战在更大的 450mm 薄酥饼范围的将来的技术节点,启用更加巨大的产品功能和可靠性半发展和生产设施的。

消灭对模型设置的需要和提供在时间的分数的象 TEM 的准确性,不用薄酥饼故障, Bruker 的自动化的基本强制显微镜 (AFMs)证明为重要技术开发的重要工具并且继续程序控制在生产从 200mm 薄酥饼发展。 同样, Bruker 的 X-射线计量学有提供分析多种重要半参数一个可靠,准确和没有接触的方法的长的传统,不用需要使用参考。 从 300mm 的薄酥饼范围转移到 450mm 表示 Bruker 的核心计量学技术现在支持的另一重要技术变化点。

“对这个半行业的 Bruker 的重大的承诺在这三个扣人心弦的新的 450mm 兼容产品被实现”,指明的 Bruker AXS 部门总裁弗兰克 Burgazyy 博士。 “X-射线和高分辨率 AFM 技术是由 2011 国际技术模式确定的如重要为将来的半导体技术节点的成功,并且 Bruker 唯一地安置以我们的技术处理这些将来的需要。 我们是非常喜悦是此重要薄酥饼范围转移的一部分,并且认为这些系统是我们继续的确定的另一个表示启用半导体技术平稳的预付款用生产值得的 X-射线和 AFM 计量学解决方法”。

关于答案450 3DAFM

基于 300mm 的生产证明的答案 3DAFM 平台,答案450 3DAFM 理想地说适用与各种各样的坎坷、深度和 CD 应用。 功能包括仅有的薄酥饼进程验证、坎坷描述特性和坑/爆沸/临时缺陷计量学; 接踵而来的基体鉴定; 薄膜和外延证言性能与微/纳诺坎坷和埃级的步骤高度精确度; 铭刻工艺过程开发和控制的深度计量学,线型抵抗 CD、 SWA 和 LER 的配置文件评定与充分的象 TEM 的配置文件; 并且 CMP 对监控程序断送和侵蚀的扁平性能。 答案 450mm AFM 的灵活性意味所有这些应用是可用的在一个唯一工具,因而减少总成本为计量学。 答案450 3DAFM 提供此功能没有塑造需要的,充分的 NIST 可追溯和没有材料或者薄酥饼故障,做它理想的工具提供及早了解在 450mm 工艺过程开发以可缩放性给 450mm 生产。

关于 FABLINE X-射线系统

Bruker 在 X-射线计量学方面继续其行业领导与下一代 D8 FABLINE,用最新的高光华 X-射线来源、探测器技术和用户友好软件装备被改进的数据分析的。 这个系统为 FEOL 和 BEOL 程序控制提供各种各样的轴向,薄膜 X-射线评定在毯子或产品薄酥饼。 它理想地说适用与确定厚度、构成和张力在 SiGe、 SiC、 SOI、 III_V 在 Si,以及构成和厚度金属影片和栈的,包括 ALD 层。 Bruker 也开发新的 S8 非破坏性的痕量金属和光要素污秽分析的 FABLINE-T TXRF (总 X-射线反映荧光) 为了继续渗透到半导体市场里。 新和涌现的设备处理创建金属集成电路制造的污染控制挑战,并且将要求 X-射线手段最新的科技目前进步水平面对这些挑战。 同时,这些最新的 FABLINE 产品为半导体生产楼层和 fabs 提供最先进的 X-射线计量学系统。

关于 Bruker Corporation (那斯达克: BRKR)

Bruker Corporation 是高性能科学仪表和解决方法一位主导的提供者分子和材料研究的,以及行业和应用分析的。 关于 Bruker Corporation 的更多信息,请访问他们的网站

Last Update: 11. July 2012 06:39

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