Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
Posted in | Nanolithography

TSMC Verklaart het Product van het Kaliber LFD van de Mentor voor Zijn 20nm Proces

Published on September 14, 2012 at 6:03 AM

Door Zal Soutter

Taiwan Semiconductor Manufacturing Company heeft (TSMC) de signoff van het Ontwerp van Litho van het Kaliber (LFD) Vriendschappelijke lithografie controlerend hulpmiddel verklaard dat door de Grafiek van de Mentor wordt ontwikkeld controle van zijn productieproces 20 NM van geïntegreerde schakelingen.

Het hulpmiddel van het Kaliber LFD kan worden gebruikt om te controleren als het kringsontwerp adequaat procesvenster en ook toestaat om hotspots te ontdekken. In de vervaardiging van geïntegreerde schakelingen, is de optische nabijheidscorrectie aangewend tijdens het maskerstadium van het proces om eigenschappen met kwesties te rectificeren. Voor die eigenschappen die niet door de voornoemde methode kunnen worden gerectificeerd, laat het hulpmiddel van het Kaliber LFD de identificatie van de tekorten in de ontwerpfase toe en verzekert rectificatie vóór tapeout. De pre-tapeout-prelithografiecontrole elimineert vertragingen in recentere stadia van productie als resultaat van herontwerp en ook vermijdt de hulp verwerkende uitgeeft betreffende lithografie.

De pre-tapeout-Pre lithografiecontrole werd de de industrienorm met de komst van 40 en 28 NM productieprocessen. De zelfde praktijk gaat voor het 20 NMproces verder. Joe Kwan, de Op De Markt Brengende Manager van het Product bij de Grafiek van de Mentor voor de Dienst LFD en DFM van het Kaliber, verklaarde dat zij samen met het recht van TSMC van de aanvang van lithoproces van TSMC controlerend (LPC) ontwikkelingsproject om het hulpmiddel van het Kaliber LFD met het geïntegreerde Ontwerp op te nemen voor de Productie van motor (DFM) van TSMC hebben gewerkt. Suk Lee, Hogere Directeur, de Op De Markt Brengende Afdeling van de Infrastructuur van het Ontwerp in TSMC verklaarde dat LPC zou de hulp in het controleren van 20 NMontwerpen met dubbel dat overeenstemming aan vereisten DFM vormt en ook hotspots betreffende lithografie elimineren. Hij gelooft dat de combinatie van hun motor DFM en Kaliber LFD het nauwkeurige lithografie controleren zal verstrekken.

Bron: http://www.mentor.com/

Last Update: 14. September 2012 07:00

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit