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Posted in | Nanofabrication

Découverte Principale dans la Réduction de Défaut de Blancs de Masque d'EUV avec le Système de Veeco IBD

Published on September 15, 2012 at 7:59 AM

Par Cameron Chai

SEMATECH, une association internationale de semi-conducteur qui s'efforce d'avancer la fabrication de puce de semi-conducteur par des activités de recherche et développement, récent enregistrée une percée significative dans la réduction de défaut de la technique multicouche de dépôt adoptée pour traiter les blancs de masque qui ont des applications en lithographie ultra-violette extrême (EUVL).

SEMATECH a réalisé la réduction significative de défaut en utilisant le Système Faible du Dépôt de Faisceau D'ions De Densité de Défaut de NEXUS (LDD IBD) développé par des Instruments de Veeco.

Des masques d'EUV sont fabriqués en employant des outils de dépôt de faisceau d'ions. Une puce est conçue sur un disque de semi-conducteur en projetant les configurations d'échelle de nanomètre sur le masque d'EUV sur le disque de semi-conducteur. Le procédé rend nécessaire le contrôle de défaut rigoureux pour les masques d'EUV parce qu'un masque pourrait être employé pendant sa vie pour modeler plus de six millions de puces de semi-conducteur. Les rétablissements Actuels et prochains des périphériques mobiles utilisent des puces avec les plus petites géométries et exigent également de elles de comporter la performance et l'alimentation électrique de haut niveau. C'est où les masques d'EUV comportant la technologie de pointe entrent dans l'illustration.

Deux aspects critiques régissant le rétablissement des photomasks de la technologie de pointe EUV pour des procédés uniques ainsi que multicouche sont contrôle complet au-dessus des propriétés optiques et niveaux particulaires très bas de dépôt. Les systèmes d'IBD de l'Instrumentation de Veeco facilitent la production d'un tel film de haute qualité pour les masques avancés d'EUV.

Frank Goodwin, Gestionnaire de programme de Réduction de Défaut de Blanc de Masque à SEMATECH, a déclaré que la technologie de première classe de l'IBD de Veeco était le support principal qui a activé le dépôt critique de film caractérisé par les niveaux très bas de défaut, et qui est conforme aux 22 conditions de défaut de procédé de nanomètre pour des blancs de masque d'EUV.

Source : http://www.veeco.com/

Last Update: 15. September 2012 08:34

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