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ATopTech Comprend la Solution de Place et d'Artère dans le Flux de Référence de 20 nanomètre du TSMC

Published on October 11, 2012 at 5:47 AM

ATopTech, l'amorce dans des solutions de design matériel de prochain rétablissement, aujourd'hui annoncées qu'Aprisa™ et ApogeeTM, la place de la compagnie et la solution d'artère, sont compris dans le Flux de Référence du 20nm de TSMC.

La technologie de la transformation du 20nm de TSMC fournit une meilleure performance et une consommation d'énergie inférieure que les rétablissements précédents. Le TSMC et l'ATopTech ont collaboré à comporter des outils d'ATopTech dans le Flux de la Référence 20nm pour relever les défis croissants de design pour 20nm.

Beaucoup de technologies neuves ont été développées dans Aprisa et Apogée pour activer la réussite de design d'abonnée à 20nm :

  • Double support de structuration (DPT) de règle de routage de technologie
  • routage Couleur-Averti
  • Flux Hiérarchique de design pour le routage de la DPT
  • conformité de largeur de VT-Minute
  • Repère de tension de GDS pour espacer le contrôle
  • Mise en place de TCD/ICOVL
  • Mise en place de cellules de Borne

« La technologie du P&R d'ATopTech architected particulièrement pour le design de technologie de pointe, » a dit Jue-Hsien Chern, PRÉSIDENT d'ATopTech. « Nous avons travaillé attentivement avec le TSMC pour développer des améliorations pour assurer le routability plus élevé possible pour la fabrication optimale pour les designs 20nm. L'adoption du Flux de Référence du 20nm du TSMC continue notre mission pour fournir à des abonnées le meilleur dans des outils de design matériel de type pour des procédés avancés. »

« Nous sommes heureux d'inclure l'outil d'Aprisa P&R d'ATopTech dans le Flux de Référence de TSMC 20nm, » a dit Suk Lee, Directeur Supérieur de TSMC, Division de Vente d'Infrastructure de Design. « L'étroite collaboration entre ATopTech et TSMC aidera à activer les projets 20nm réussis pour nos abonnées communes. »

Source : http://www.Atoptech.com

Last Update: 11. October 2012 06:23

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