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UVISEL phase VUV ellipsomètre spectroscopique à modulation de Horiba Jobin Yvon étendue Down To 140nm

Published on August 22, 2007 at 10:51 PM

L'introduction de la phase de UVISEL VUV ellipsomètre spectroscopique modulé par Horiba Jobin Yvon étend les capacités de performance de la série UVISEL à 140 nm. Cette gamme d'énergie est de plus en plus important pour la caractérisation des films extrêmement minces utilisée dans des dispositifs nanométriques avec nanoélectroniques, les applications nanophotonique, nanobiocapteur et nanorobotique.

UVISEL VUV ellipsomètre

Le UVISEL VUV ellipsomètre fournit la meilleure combinaison de performance supérieure VUV et la flexibilité expérimentale pour déterminer l'épaisseur du film mince et constantes optiques à travers la gamme de longueur d'onde de 140 à 826 nm. Caractéristiques de l'VUV UVISEL comprennent:

  • Large plage spectrale à très haute vitesse
  • La conception avancée pour des performances élevées dans le VUV
  • L'accès direct et l'échantillon de chargement rapide
  • Technologie de modulation de phase pour une grande précision et de mesure de précision
  • Excellent signal à bruit et rapport signal sur fond

Pour être en mesure de couvrir cette gamme de l'instrument doit être l'air / oxygène libre, et c'est ce qui peut réduire les exigences de débit de l'échantillon pour certains instruments grâce à l'infiltration d'air et de son retrait lorsque l'échantillon est monté et démonté par les instruments.

Afin de minimiser les conséquences pour les VUV UVISEL est configuré comme trois compartiments séparés, la lampe + polariseur, la chambre de l'échantillon, et le modulateur photoélastique + monochromateur + système de détection de photomultiplicateurs. Le compartiment de l'échantillon a un accès séparé et est équipé de son propre système de purge isolé.

Cette conception permet une grande flexibilité et polyvalence pour la manipulation des échantillons, et permet un débit d'échantillonnage élevée.

Le VUV UVISEL est contrôlé par la plate-forme Deltapsi2 logiciel, et est idéal pour les applications des couches minces pour VUV exigeantes de recherche et de contrôle de la qualité industrielle.

Applications VUV Thin Film

VUV ellipsométrie spectroscopique gamme d'applications à partir des mesures des constantes optiques et de bande interdite optique des matériaux absorbants loin dans l'UV comme les matériaux de haute k, matières organiques, l'optique stepper, résines photosensibles.

VUV ellipsométrie spectroscopique offre une précision accrue pour la mesure de l'épaisseur des couches très minces et des interfaces. Ceci est particulièrement utile pour les applications nanométriques, où la caractérisation d'un oxyde natif, une couche rugueuse au-dessus ou une interface affecte l'efficacité du dispositif final.

Last Update: 3. October 2011 18:32

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