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UVISEL VUV 階段調整了從 Horiba Jobin 對 140nm 被延伸的下來 Yvon 的分光鏡 Ellipsometer

Published on August 22, 2007 at 10:51 PM

UVISEL VUV 階段被調整的分光鏡 ellipsometer 的簡介從 Horiba Jobin Yvon 的擴大 UVISEL 串聯的性能下來到 140 毫微米。 此能源範圍變得愈加重要為用於有 nanoelectronic, nanophotonic 的 nanoscale 設備的非常薄膜的描述特性, nanobiosensor 和 nanorobotic 應用。

UVISEL VUV ellipsometer

UVISEL VUV ellipsometer 提供優越 VUV 性能和實驗靈活性的最佳的組合確定薄膜厚度和光學常數在波長範圍 140 間到 826 毫微米。 UVISEL VUV 的功能包括:

  • 在非常高速的寬光譜範圍                           
  • 高性能的先進的設計在 VUV
  • 直接範例存取和快速裝載
  • 高精確度和精密測量的相位調制技術
  • 非常好的針對噪音的信號和信號對背景比例

要能報道此大範圍儀器一定是航空/無氧,并且它是此可能由於航空和其刪除進入減少有些儀器的範例處理量的需求,當這個範例從儀器時被掛接并且被卸下。

要使此影響減到最小 UVISEL VUV 配置為三不同隔間; 閃亮指示 + 偏振鏡、範例房間和光彈性的調制器 + 單色儀 + 多極光電管檢測系統。 範例隔間得以進入單獨和用其自己的查出的清除系統裝備。

此設計為處理的範例提供高靈活性和通用性,并且啟用高範例處理量。

UVISEL VUV 是由 Deltapsi2 軟件平臺控制的,并且對 VUV 對過分要求的研究和工業質量管理的薄膜申請是理想的。

VUV 薄膜應用

VUV 分光鏡 ellipsometry 應用從材料光學常數和光學 bandgap 的評定吸收在紫外的範圍例如高 k 材料,有機材料,步進光學,光致抗蝕劑。

VUV 分光鏡 ellipsometry 為非常薄層和界面的厚度評定提供增加的精確度。 這為一種當地氧化物、一塊概略的超出層或者界面描述特性影響最終設備的效率的 nanoscale 應用是特別有用的。

Last Update: 23. January 2012 08:01

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