Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

FLAIREZ le Masque Manuel de Troisième Génération de Lancements de MicroTec et Collez le Dispositif D'alignement

Published on October 1, 2008 at 11:09 PM

FLAIREZ MicroTec, fournisseur des solutions novatrices pour l'Intégration 3D (3DI), MEMS, marchés Avancés d'Emballage et de Nanotechnologie, lancements le troisième génération de son MA/BA8, un masque manuel et collez le dispositif d'alignement qui offre la souplesse de processus la plus élevée comprenant le cadrage submicronique et bloc optique d'exposition consacré pour profondément résistent à l'exposition. De plus elle permet facile et rapidement des mises à jour aux technologies émergentes telles que l'impression d'UV-nano, les microlens imprimant, l'UV-métallisation et le cadrage en esclavage amélioré. Les MA/BA8 Gen3 neufs de FLAIRENT des cartels de MicroTec une uniformité inégalée de définition et de lumière avec une capacité à haute précision de cadrage vers le bas à 0.25µm, le de grande précision pour un dispositif d'alignement de masque disponible aujourd'hui.

La capacité de traiter facilement pratiquement toutes sortes de matériaux de disque et de substrat effectue le dispositif d'alignement manuel neuf à partir FLAIRER MicroTec une solution préférée également pour des environnements de production, où elle adresse la demande croissante en contrôle du processus plus serré. Des Procédés développés sur le MA/BA8 Gen3 peuvent être rapidement transférés sur un robotisé FLAIRENT le Dispositif D'alignement de Masque pour la production à fort débit, car les deux plates-formes de dispositif d'alignement sont basées sur la même chose FLAIRENT la technologie.

« Le MA/BA8 a été conçu pour activer rapide et le développement pertinent des technologies et des produits de la transformation neuf », le Loup expliqué de Rolf, directeur général de Division de Lithographie SUSS MicroTec, des « Organisations pour la recherche tirera bénéfice des capacités améliorées du MA/BA8 Gen3 comme il leur permet de développer leurs procédés avec le matériel industriellement compatible. »

Last Update: 17. January 2012 08:07

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit