Rutgers और सीसीआर में Malvern उपकरण कण विशेषता प्रयोगशाला पर सहयोग

Published on December 4, 2008 at 5:42 PM

Rutgers (न्यू जर्सी के राज्य विश्वविद्यालय) सिरेमिक रिसर्च (सीसीआर) के लिए केंद्र में एक नए कण लक्षण वर्णन और rheology प्रयोगशाला स्थापित किया जा रहा है और विश्वविद्यालय के बीच एक सहयोगी परियोजना के भाग के रूप में, Malvern उपकरण. Malvern राज्य के अत्याधुनिक उपकरण के एक सूट है कि सीसीआर से शोधकर्ताओं, अन्य विश्वविद्यालय के विभागों और साझेदारी के विश्वविद्यालयों (Penn राज्य और न्यू मैक्सिको) द्वारा इस्तेमाल किया जाएगा जारी रखने के लिए rheology और कण विशेषताओं के बीच लिंक का अन्वेषण प्रदान कर रहा है. नई सुविधा, सीसीआर के निदेशक प्रोफेसर रिचर्ड हेबर द्वारा प्रबंधित किया जाएगा.

"कण आकार, आकार के वितरण और संभावित जीटा जैसे गुण अक्सर सीधे rheological व्यवहार को प्रभावित," प्रोफेसर हेबर ने कहा. "Malvern इस पहचानता है और विशिष्ट, दोनों क्षेत्रों में घर में विशेषज्ञता और इंस्ट्रूमेंटेशन है. वे हमारे काम के लिए एक उत्कृष्ट भागीदार हैं. हम इन नए उपकरणों का उपयोग करने के लिए इस औद्योगिक महत्वपूर्ण क्षेत्र में आगे समझ धक्का के लिए तत्पर हैं. "

500 वर्ग फुट प्रयोगशाला घूर्णी और केशिका rheometers शामिल होंगे - मिथुन और 2000 के क्रमश: आरएच. ये Zetasizer नैनो nanoparticle लक्षण वर्णन के लिए, और लेजर विवर्तन आधारित रेंज 0.02-2000 माइक्रोन कण आकार माप के लिए एक 2000 Mastersizer से पूरित किया जाएगा. इन सभी राज्य के अत्याधुनिक उपकरणों Malvern उपकरण द्वारा निर्मित कर रहे हैं.

Rheometry, Malvern उपकरण - "दोनों rheology और कण लक्षण वर्णन है Malvern सामग्री लक्षण वर्णन व्यापार कोर रहे हैं, तो हम प्रोफेसर हेबर और सीसीआर के साथ सहयोग करने के लिए खुश हैं" फ्रेड Mazzeo, अमेरिका के उत्पाद प्रबंधक ने कहा. "हम जानते हैं कि विश्व स्तरीय Rutgers में शोधकर्ताओं हमारे सिस्टम के महान उपयोग कर देगा और हम परिणाम देखने के लिए तत्पर हैं. कण गुण और rheology के बीच संबंध की खोज में भारी रुचि है, और इस शोध के परिणाम बड़े पैमाने पर आवेदन करना होगा. "

Malvern उपकरण पूरक सामग्री लक्षण वर्णन उपकरण है कि अंतर - संबंधित particulates की जटिलताओं को दर्शाती माप देने और प्रणालियों, nanomaterials, और बड़े अणुओं फैलाने की एक सीमा प्रदान करता है.

Last Update: 4. October 2011 08:56

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