Tegal Empfängt Ordnung für Bemühung an der PVD-Cluster-Hilfsmittel-Verbesserung vom Großmacht-Management-Bauteil-Hersteller

Published on January 15, 2009 at 5:46 PM

Tegal Corporation (Nasdaq: TGAL), ein führender Designer und ein Hersteller der Plasmaätzung und Absetzungsanlagen verwendet in der Produktion des Leistungshalbleiters, des MEMS und der optoelektronischen Einheiten, heute angekündigt, dass die Firma eine Ordnung für eine Bemühung an der PVD-Cluster-Hilfsmittelverbesserung von einem führenden globalen Hersteller von Leistungsmanagementbauteilen für die Nachrichtenübermittlung, die Unterhaltungselektronik und die industriellen Märkte empfing. Die Bemühung an der PVD-Anlagenverbesserung versendet im ersten Viertel von CY2009 und wird von Tegals Abnehmer verwendet, um die Reihe von den dünnen Siliziumscheiberückseiten-Aufdampfenanwendungen zu erweitern, die jetzt in Massenproduktion am Abnehmer laufen, der inländisch ist, den ISO-zugelassenen tollen Wafer.

„Sagte erfolgreiche Produktionserfahrung Unseres Abnehmers mit dem überlegenen handhabenden Wafer, Filmbeitritt, und ergaben eutektische Schaffungsfähigkeiten des Filmes der Bemühung AN PVD-Anlage auf dünnen Waferrückseiten-Aufdampfenanwendungen diese Hilfsmittelverbesserungsordnung, und wir freuen uns, dieses Wiederholungsgeschäft erworben zu haben,“ Paul Werbaneth, Vizepräsident - Marketing, Tegal Corporation. „Sobald ihre Bemühung Am Hilfsmittel in Massenproduktion freigegeben wurde, sah unser Abnehmer demonstrierbare Handelsvorteile, resultierend aus den S-Gewehr PVD Prozessen, die auf der Bemühung AN und infolgedessen ausgeführt werden hat entschieden sich jetzt, ihr Bemühungshilfsmittel auszubauen, um die Prozess- und Produktionsfähigkeiten der Anlage zu erweitern.“

Die Tegal-Bemühung An der Anlage ist ein Clusterhilfsmittel des hochmodernes, Ultrahochvakuum PVD, das in Produktion fabs verwendet wird, um Filme des konsequenten, hohen Reinheitsgrades, mit Tief zu den nulldruckwerten, in einer extrem sauberen Prozessumgebung abzugeben. Niedrige Druckfilme werden breit im Rückseitenaufdampfen für Leistung und getrennte Einheiten, in den Unterstoß Aufdampfenanwendungen, im fortgeschrittenen Verpacken, Hochhelligkeit in lichtemittierenden Dioden (HB-LED) und im Erstellen von Galvano-akustischen Einheiten für BAW-, FBAR- und HFMEMS Anwendungen verwendet. Die Bemühung AN hat eine bedienungsfreundliche GUI-, SECS-/GEMnachrichtenübermittlung, zuverlässigen handhabenden Niedrigkontakt Wafer und flexible Waferform- und -größenfähigkeit, die das Bemühungshilfsmittelideal für ultra-saubere Produktionsumgebungen für VorderSide- und Rückseitenanwendungen machen. Wahlweise Schaden-freie Weichätzung Blöcke und eine Vielzahl von GLEICHSTROM-, WS- und HF-Magnetron Konfigurationen, ist erhältlich, vielen zu spritzen unterschiedlicher Nichtleiter und leitfähigen die Filme, die im Halbleiter, in MEMS und in anderer Produktion des elektronischen Geräts verwendet werden.

Last Update: 14. January 2012 13:55

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit