Litografia Automatizzata di Nanoimprint Passo Passo - Lo ZERO EVG770 Passo Passo dal Gruppo di EV

La Litografia del Nanoimprint Automatizzata EVG770 del Gruppo di EV (NIL) Passo Passo è progettata per i trattamenti UV-Nanoimprint della Litografia di ampia area di ripetizione e di punto (UV-NIL) compatibili per 100 millimetri fino ai wafer da 300 millimetri. Le applicazioni Passo Passo dei coperchi di ZERO gradiscono le scienze biologiche, le componenti ottiche, la padronanza, 3D-Lithography e la R & S per le unità a semiconduttore.

Le Funzionalità del EVG770 hanno Automatizzato lo ZERO Passo Passo includono:

  • Il Vuoto che imprime sulla a filare-sul livello del polimero, che elimina le emissioni di difetto ha causato dalle bolle-ultimo bloccate dell'aria con conseguente fedeltà superiore del reticolo
  • Sensori Ottici che allineano il bollo ed il wafer in parallelismo perfetto per la compensazione senza contatto del cuneo
  • Blocchi il movimento nel mandrino via un sistema senza contatto del cuscinetto per diminuire la contaminazione della particella
  • Sistema Di Alta Precisione di allineamento con accuratezza entro +/--500 nanometro; Allineamento Fine: 50nm (facoltativo)
  • la misura della Caricamento-Cella della forza, del miglioramento l'uniformità dell'impronta e dell'affidabilità di trattamento dovuto controllo di forza attiva e di tenere conto la caratterizzazione in tempo reale e in situ di vario disponibile nel commercio resiste a e di anti-attaccare di embossing/de-embossing i livelli
  • Livelli Flessibili di automazione della strumentazione, rendenti lo ZERO Passo Passo, una transizione facile ed economica dalla R & S a piccola o fabbricazione in grande quantità
  • Fattore forma De facto del modello per accorciare il tempo complessivo di montaggio
  • La Capacità per supportare un host di disponibile nel commercio resiste a con le viscosità varianti fra 1 a parecchi 1.000 mPas, miglioranti la flessibilità trattata per il micro modanatura e nanopatterning

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