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Posted in | Sputtering Systems

Sistema de la Deposición de la Película Fina de TriAxis de Semicore

Los sistemas de TriAxis de Semicore utilizan un diseño de poco costo de la “plataforma abierta” que se configure fácilmente para adaptarse a una variedad de aplicaciones de la deposición de la película fina, típicamente para el R&D o la pequeña producción de tratamiento por lotes. El TriAxis ofrece flexibilidad sin igual siendo el primer para ofrecer las tres hachas de chisporrotea ordenaciones de la deposición (encima de, hacia abajo u horizontal) en una única plataforma. Un filete completo de opciones estándar está disponible para configurar el TriAxis para adaptarse a sus requisitos específicos.

Las Características del sistema del chisporroteo de Semicore TriAxis incluyen:

  • Flexibilidad Sin Igual
  • Chisporroteo triaxial
  • Opciones Completas
  • de poco costo

Last Update: 9. May 2013 10:41

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