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LOI Ha precisato la Struttura per il Nuovo Livello di Collaborazione Fra SEMATECH e TOK sulle Tecnologie di Next Generation EUVL

Published on February 24, 2009 at 8:18 AM

SEMATECH, un consorzio globale dei chipmaker, annunciato oggi che ha firmato una Lettera D'intenzione (LOI) Con Tokyo Ohka Kogyo Co., la Srl (TOK), un produttore principale dei photoresists, stabilente il fondamento per un accordo di sviluppo congiunto sugli sforzi di collaborazione per ottimizzare e sviluppare i nuovi materiali avanzati della rappresentazione per la litografia ultravioletta (EUV) estrema.

Poichè un membro di Resistenza del programma della litografia di SEMATECH, TOK collaborerà con gli esperti al EUV di SEMATECH Resista A e Centro di Sviluppo dei Materiali (RMDC) all'Istituto Universitario di Scienza di Nanoscale e di Assistenza Tecnica (CNSE) dell'Università a Albany sviluppare e dimostrare il photoresist avanzato di EUV per uso al vertice di 22 nanometro e di là.

“Questo LOI ha precisato la struttura per un nuovo livello di collaborazione fra SEMATECH e TOK sulle tecnologie della generazione seguente EUVL,„ ha detto John Warlaumont, vice presidente delle tecnologie avanzate, SEMATECH. “Crediamo che l'abilità e l'esperienza in TOK combinato con la competenza di SEMATECH nel photoresist di EUV accelerino il nostro progresso nell'affrontare le sfide chiave - quali risoluzione, rugosità di riga-larghezza ed il crollo del reticolo - nella zona critica della rappresentazione avanzata.„

“Come le capacità di livello internazionale di ricerca e sviluppo al UAlbany NanoCollege permetta agli avanzamenti critici nella tecnologia di EUV, l'aggiunta di TOK all'associazione di SEMATECH-CNSE servirà a migliorare ed ampliare quegli sforzi,„ ha detto Richard Brilla, vice presidente per strategia, le alleanze ed i consorzi a CNSE. “Siamo deliziati per accogliere favorevolmente TOK ad Albany NanoTech di CNSE, in cui unisce il numero crescente dei partner corporativi mondiali che riconoscono la direzione globale di New York nella formazione, nell'innovazione e nello sviluppo economico del nanoscale.„

L'anno scorso, gli avanzamenti significativi in EUV resiste a sono stati permessi a dal EUV RMDC di SEMATECH tramite i sui strumenti delle due micro-esposizioni (METs) situati al CNSE ed al Laboratorio Nazionale di Lawrence Berkeley. Con il EUV di SEMATECH resista al programma di sviluppo, ingegneri e resista ai fornitori hanno realizzato i progressi significativi nel migliorare per resistere alla risoluzione; i risultati più recenti hanno dimostrato la risoluzione del mezzo passo di 22 nanometro.

Lo scopo del RMDC di SEMATECH è di fornire la capacità di livello internazionale dell'esposizione ed il servire da centro principale affinchè il fornitore resiste a e la ricerca dei materiali permetta alle 22 tecnologie di modello di nanometro e di là. Come componente del suo sforzo in corso per creare le opzioni flessibili di partecipazione per i materiali ed i produttori di macchinari, SEMATECH ha aperto il suo resiste al programma a partecipazione dalle società quale TOK, per permettere alle più vaste ed associazioni più profonde per lo sviluppo dei materiali avanzati.

Last Update: 17. January 2012 04:50

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