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Revolucionario SOKUDO DUO Coat / Desarrollar la pista plataforma que ejecuta en 300wph

Published on May 6, 2009 at 10:50 PM

SOKUDO Co., Ltd. anunció hoy que su abrigo revolucionario DUO SOKUDO / plataforma de desarrollo de la pista ha estado funcionando a un cliente en 300wph durante el proceso de la litografía, la industria de más alto rendimiento del sistema de pistas. Mediante la incorporación de un innovador diseño de doble vía, este sistema de seguimiento de próxima generación mejora notablemente la producción de obleas - que tradicionalmente ha sido limitada a aproximadamente 200wph.

A finales del año pasado, SOKUDO sistemas DUO se instalaron en una fábrica de producción de la compañía de semiconductores de Toshiba para llevar a cabo la evaluación del rendimiento del sistema en un proceso de fotolitografía. Durante la evaluación de Toshiba, el sistema mejorado sustancialmente los puntos de referencia anteriores de procesamiento, lo que demuestra el rendimiento 300wph en stand-alone abrigo y desarrollar configuraciones de pista.

La mejora de la productividad del sistema se ha convertido cada vez más crítico para los fabricantes de semiconductores para reducir los costos de producción, sin dejar de acelerar la tecnología de modelado de linewidths avanzada. Esta validación del cliente confirma el procesamiento del sistema SOKUDO DUO de alto rendimiento y su capacidad para aumentar significativamente el rendimiento de la productividad.

SOKUDO Co., Ltd. (Sede: Kyoto, Japón) es una empresa conjunta propiedad de Dainippon Screen Mfg Co., Ltd. y Applied Materials, Inc. SOKUDO se estableció el 3 de julio de 2006 para el desarrollo, fabricación, ventas y el servicio de la capa de avanzada / desarrollar equipos de vía para la producción de semiconductores. Información adicional sobre SOKUDO se puede encontrar en www.sokudo.com .

Last Update: 25. October 2011 12:43

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