La Cubierta Revolucionaria del DÚO de SOKUDO/Desarrolla la Plataforma del Carril Que Se Ejecuta en 300wph

Published on May 6, 2009 at 10:50 PM

SOKUDO Co., Ltd. anunció hoy que su cubierta revolucionaria del DÚO de SOKUDO/desarrolla la plataforma del carril se ha estado ejecutando en un sitio de cliente en 300wph durante la litografía que tramita, la producción de sistema más alta del carril de la industria. Incorporando un diseño de carril doble innovador, este sistema de carril de la siguiente-generación mejoró dramáticamente rendimiento del fulminante -- cuál se ha limitado tradicionalmente a aproximadamente 200wph.

A finales del año pasado, los sistemas del DÚO de SOKUDO fueron instalados en una producción fabulosa de la Compañía del Semiconductor de Toshiba para conducto la evaluación del rendimiento del sistema en un proceso de la fotolitografía. Durante la evaluación de Toshiba, las pruebas patrones de tramitación anteriores substancialmente mejoradas del sistema, demostrando la producción 300wph en cubierta independiente y desarrollan configuraciones del carril.

Mejorar productividad de sistema ha llegado a ser cada vez más crítico para que los fabricantes del semiconductor reduzcan costos de producción, mientras que continúa acelerar la tecnología que modelaba para los grosores de línea avanzados. Esta validación del cliente confirma la alta producción de SOKUDO del sistema del DÚO que tramita, y su capacidad para reforzar importante funcionamiento de la productividad.

SOKUDO Co., Ltd. (Comandancias: Kyoto, Japón) es una compañía conjunta poseída por la Pantalla Mfg. Co. de Dainippon, el Ltd. y Applied Materials, Inc. SOKUDO fueron establecidos el 3 de julio de 2006 para el revelado, fabricación, ventas y el servicio de la cubierta avanzada/desarrolla el equipo del carril para la producción del semiconductor. La información Adicional sobre SOKUDO se puede encontrar en www.sokudo.com.

Last Update: 5. June 2015 09:59

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