Fraunhofer 选择的 EVG 的基于紫外的 Nanoimprint 石版印刷系统 IOF 为光电子研究

Published on May 12, 2009 at 9:11 AM

EV 组 (EVG),薄酥饼 MEMS 的,纳米技术和半导体市场接合和石版印刷设备的主导的供应商,今天宣布了应用光学和精确工程 IOF 该 Fraunhofer 学院--Fraunhofer 法理社会 57 所学院之一投入应用光学和精确度应用导向研究--所选的 EVG 的基于紫外的 nanoimprint 石版印刷 (UV-NIL) 步骤和重复系统其前进光电子研究工作的。 为微型透镜使用 UV-NIL 步进掌握和铸造为许多的学院微型光学应用,包括薄酥饼级的照相机的纤维光学和 CMOS 图象传感器,以及其他 nanoimprinting 的应用的。

印途径的 EVG 的唯一步骤和重复集成一个透镜重要资料生成功能,增添传统单步的进程。 此被添加的功能启用一份透镜重要资料的创建运作的印花税制造和随后的全薄酥饼透镜微型造型的。 这个系统也提供重大的节约成本好处,特别地与传统透镜重要资料制造技术比较,包括后加工的清除跨步,这种灵活性使用各种各样商业可用抵抗和增加的处理量。 拉从其专门技术对齐系统, EVG 的 UV-NIL 步进功能亚显微对准线准确性,造成改进的产量以及设备性能。

“我们继续推进在微型光学研究的信包,并且,当这样正在寻找提供灵活,创新的设备合作伙伴,在最尖端保留我们的有效系统””,说博士彼得 Dannberg,组领导先锋 “微型光学技术 Fraunhofer IOF。 “在评估从几个 nanoimprint 石版印刷供应商的解决方法,我们为其优越微型透镜根本地选择了按照正演示结果的 EVG 的系统以及掌握和 nanoimprinting 功能以后。 这种处理灵活性其 UV-NIL 步进聘用是一个重大的值添加,因为它提供我们以能力为各种各样的应用使用它”。

“此机会与一个头羊研究所成为伙伴例如 Fraunhofer IOF 是重大的对我们在许多级别上”,注释的博士托马斯 Glinsner, EV 组的产品管理经理。 “EVG 的历史记录深深地根源于服务有对高性能工具的需要是灵活和有效的 R&D 环境。 接近从事与 R&D 大学和机构是我们如何开始了我们的商业,并且多年来,它对 EVG 在从 R&D 初期的技术开放了新市场,允许我们介入通过大容积商品化。 我们兴奋与象 Fraunhofer 的一所举世闻名的学院一起使用,并且盼望对我们的合伙企业可能带来的扣人心弦的新的机会”。

Nanoimprint 石版印刷获取在前进 R&D 的采用多种设备的包括薄酥饼级的照相机,没有牺牲是关键的对适应从市场的需要例如移动电话和光学的模式保真度的更低的制造成本。 EVG 是活跃的在 UV-NIL 自 1997年以来和从那以后与多种行业合作伙伴和 R&D 机构一起使用开发的 nanoimprinting 的技术的。 在其大容积用户中是七边形微型光学有限公司 Pte 在新加坡,为在 2008年 7月宣布的大容积 microlens 生产选择 EVG 的智商直线对准器。

Last Update: 14. January 2012 00:15

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