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応用材料は高度の銅の沈殿処理を含むために AKT- のピボット 55KV PVD システムを拡大します

Published on October 27, 2009 at 8:57 PM

TFT-LCD* のフラットパネルディスプレイを製造するために処理する高度の銅の沈殿を含むために進歩 AKT- PiVot™ 55KV PVD* システムを拡大したことを Applied Materials、 Inc. は今日発表しました (FPD)。 ピボットシステムを使用して、 FPD の製造業者によっては次世代 LCD-TV のパネルのより速いピクセル応答および低い電力の消費を達成ためにアルミニウムからの銅のバス路線への転移ができます。 ピボットシステムは高められたフィルムの形態と高い溶着速度を、効率的なターゲット利用および長い保全間隔を結合することによって基準、コスト効率が高い銅の沈殿パフォーマンス提供します。

応用材料は高度の銅の沈殿処理を含むために進歩の AKT ピボット PVD システムの機能を拡大します。 (写真: ビジネスワイヤー)

ピボットシステムの優秀なフィルムの品質へのキーは均一穀物の分布、低い抵抗および高い厚さの均等性の銅の層を沈殿させるために一義的な沈殿変調技術を用いる専有回転式陰極デザインです。 ピボットシステムはまた 80% 以上ターゲット利用が高い目標資料の重要な節約を提供することを可能にします。

「無比のフィルムの特性および効率的な原料の利用の提供によって、私達の AKT ピボットシステムはより大きく、超高度定義パネルのための要求によって運転され、沈殿技術の革新を低い費用の所有権で良質のフィルムを渡すように要求する今日の LCD TV の市場の重大な必要性に」言いました Mark Pinto 先生、応用表示およびエネルギーおよび環境の解決のグループの上席副社長および総務部長を答えます。 「システム証明された生産性および専有銅の加工技術 FPD の解決の私達の強いポートフォリオに作成します強力な付加を」。は

ピボットシステムのモジュラーアーキテクチャは従来のインライン機械で異なったモジュールで異なったプロセス時までに引き起こされるネックを除去する構成の大きい変化が生産の効率を最大化することを可能にします。 ピボットシステムのクラスタそっくりの整理はまた個々のモジュールの維持の間に連続操作を可能にします。 長い保全間隔および拡張されたターゲット生命と結合されて、ピボットシステムは企業の高可用性および最も長く連続的な生産時間を提供します。

AKT ピボット 55KV PVD システムの優秀な銅の沈殿技術は応用材料で」横浜、高度 FPD の製造業の解決の応用ポートフォリオの一部とする 10 月 28-30 日に日本の FPD の国際的な、緑装置 2009 年のブース、展示されます。 これらの解決は TFT アレイおよび色フィルターのための PECVD*、 PVD、電子ビームのアレイテスト技術、工場自動化およびサービスを含んでいます。 さらに、応用材料は適用範囲が広い PV* および表示のための太陽、低e ガラスコーティングおよびロールにロール沈殿を含む緑装置製造技術を、表示します。

Applied Materials、 Inc. (NASDAQ: AMAT は) 革新的な装置の広いポートフォリオが付いている Nanomanufacturing Technology™の解決の全体的なリーダー、半導体チップの製造のためのサービスおよびソフトウェア製品、フラットパネルディスプレイ、太陽光電池、適用範囲が広い電子工学およびエネルギーです

効率的なガラス。 応用材料で、私達は生きている方法人々を改良するために Nanomanufacturing の技術を適用します。 www.appliedmaterials.com で多くを学んで下さい。

* TFT-LCD = 薄膜トランジスター液晶表示装置; PVD = 物理的な蒸気沈殿; PECVD は = 化学気相堆積を血しょう高めました; PV = 光起電

Last Update: 13. January 2012 11:20

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