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Veeco 引入二專利待定 AFM 掃瞄方式

Published on December 1, 2009 at 8:26 AM

Veeco Instruments Inc. (那斯達克: VECO),基本強制顯微鏡手段的主導的提供者 (AFM)對研究的和行業社區,今天宣佈二專利待定 AFM 掃瞄方式的簡介, ScanAsyst™和 PeakForce™ QNM™。 同時,這些所有權預付款為 AFM 定量分析和易用提供唯一,新的功能在 Veeco 的 Dimension® Icon®, BioScope™ Catalyst™和最近宣佈的 MultiMode® 8 個掃描探測顯微鏡。 Veeco 陳列 ScanAsyst 和 PeakForce QNM 在夫人秋季會議在波士頓, MA, 12月 1日通過第 4。

「我們映射模式的新的 ScanAsyst 和 PeakForce QNM 定量 NanoMechanical 屬性做 nanoscale AFM 想像和分析更加快速,更加容易和更加定量」,被評論的大衛 Rossi,副總統和總經理 Veeco 的 AFM 商業。 「使 AFMs 更加容易和定量對重要研究開張新的突襲對材料、能源、生命科學、配藥和 nanoscale 交往和進程是關鍵的對突破發現的其他競技場,但是研究員由昨天 AFM 技術的地方功能限制」。

  • ScanAsyst 是世界的第一 AFM 圖像優化掃瞄方式,提供易用的新的級別在獲取可靠,優質 nanoscale 數據。 不管運算符技能級別,使用不斷地監控圖像質量并且做適當的參數調整的智能算法,此革命,專利待定掃瞄方式實現快速地,更加一致的結果,自動地,和。 ScanAsyst 巨大改進圖像設置與參數的自動優化和理想地說配合各種各樣的材料和生命科學應用,與運算在航空和流體。
  • PeakForce QNM 是使用專利待定 PeakForce 開發的技術記錄非常快速強制響應曲線在這個圖像的每一像素的一種全新, Veeco 發達操作方式。 此想像模式啟用史無前例定量 nanomechanical 屬性映射模數和黏附力在各種各樣的材料,而同時想像範例地勢在高分辨率。 除更加準確和更加可重複的結果之外,直接這個的模式的,探測技巧的超低強制控制在掃描幫助期間的保護精美技巧和範例,產生更長的探測壽命、少量探測替換和被改進的範例完整性和評定一貫性。 關於 Veeco

Veeco Instruments Inc. 製造啟用客戶的解決方法在 HB-LED、太陽,數據存儲、半導體、科學研究和行業市場上。 我們有在我們的三企業的主導的技術位置: LED & 太陽處理設備、數據存儲處理設備和計量學儀器。 Veeco 的製造和工程設施位於紐約、新澤西、加利福尼亞、科羅拉多、亞利桑那、明尼蘇達和馬薩諸塞。 全球銷售額和服務辦公室位於在美國、歐洲、日本和 APAC 中。

Last Update: 25. January 2012 09:04

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