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La Fundición Más Grande del Semiconductor del Mundo Pide la Reparación de la Máscara del Bucle Cerrado de Carl Zeiss y la Solución de la Verificación para el Nodo 32nm

Published on March 30, 2010 at 3:16 AM

La fundición más grande del semiconductor del Mundo de Taiwán ha puesto una pedido combinada para el Sistema MeRiT® HORA 32 de la Reparación del Defecto de la Máscara y el Sistema de Medición Antena de la Imagen AIMS™ 32-193i de Carl Zeiss para prepararse para la producción de photomasks de gama alta de la generación siguiente.

Los OBJETIVOS 32-193i y el Mérito HORA 32 activan la producción de photomasks del cero-defecto en el nodo 32nm y más allá.

“Como una de las fundiciones más avanzadas que nuestro cliente tiene que invertir estratégico para asegurar la producción del photomask del defecto cero para los 32 y los nodos próximos 22nm. Para la introducción de los nodos siguientes de la tecnología la nueva generación de OBJETIVOS y los sistemas de Mérito son componentes esenciales para asegurar la fabricación de los photomasks de alta calidad con cero-defectos.” explica al Dr. Oliverio Kienzle, Director de Gerente de la División de SMS de Carl Zeiss SMT.

Carl Zeiss puso en marcha el año pasado los sistemas de la aptitud y de la reparación de la máscara para el nodo 32nm. Los “OBJETIVOS y el Mérito son establecidos en el mercado como solución a circuito cerrado para las máscaras sin defectos, especialmente en el nodo 65nm y 45nm. Los Gracias a la colaboración estrecha con los clientes dominantes podríamos desarrollar tecnología avanzada adicional para derivar sistemas fuertes de la generación siguiente.” Kienzle continúa. Él destaca que los clientes aprecian especialmente el esquema completo flexible de la iluminación de los OBJETIVOS 32-193i y del nuevo concepto de la plataforma de la alto-estabilidad del sistema de la HORA 32 del Mérito extensible a las tecnologías futuras incluyendo EUV.

El Mérito basado e-haz HR32 del sistema de la reparación de la máscara emplea dos estrategias paralelamente para cubrir las demandas de la litografía de 32 nanómetro. La calidad requerida de la reparación en términos de exactitud de la resolución y de la colocación es dirigida por una plataforma nueva del e-haz que incluya un mini-ambiente activamente controlado. Esta característica proporciona a de alto nivel de la estabilidad térmica y mecánica. El proceso aumentado ayudado por un flexible, sistema del e-haz de suministro de gas de proceso de la alto-capacidad mejora estabilidad del grabado de pistas y talla de la reparación de la condición atmosférica mínima. Además activa nuevas y desafiadoras tecnologías de la máscara como OMOG-tipo y máscaras de EUV. La tecnología del Mérito construye una solución a circuito cerrado así como AIMS™ para la reparación del defecto y la verificación de la reparación. Los nuevos OBJETIVOS 32-193i activan la emulación exacta de las técnicas de la litografía 32nm tales como Tecnología Que Modela Doble, Optimización de la Máscara de la Fuente y Litografía De Cómputo.

De Acuerdo con la experiencia amplia de Carl Zeiss con tecnologías del lente del analizador el sistema se asegura analizador-como funcionamiento de la proyección de imagen por la nueva óptica del grado de LITO®. Un sistema de iluminación avanzado permite la emulación de toda clase de configuraciones de la iluminación 193nm. Por primera vez en la transmisión variable de la historia de los OBJETIVOS en el alumno de la iluminación está disponible ahora con los OBJETIVOS 32-193i.

Last Update: 13. January 2012 00:26

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