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La Plus Grande Fonderie de Semi-conducteur du Monde Commande le Réglage de Masque de Boucle Bloquée de Carl Zeiss et la Solution de Vérification pour le Noeud 32nm

Published on March 30, 2010 at 3:16 AM

La plus grande fonderie de semi-conducteur du Monde de Taïwan a passé une commande combinée de le Système MeRiT® l'HEURE 32 de Réglage de Défaut de Masque et le Système de Mesure Aérien d'Image AIMS™ 32-193i de Carl Zeiss pour se préparer à la production des photomasks à extrémité élevé de prochain rétablissement.

Les OBJECTIFS 32-193i et le Mérite l'HEURE 32 activent la production des photomasks de zéro-défaut au noeud 32nm et au-delà.

« Comme une des fonderies les plus avancées que notre abonnée doit investir stratégiquement pour assurer la production de photomask de défaut zéro pour les 32 et les noeuds 22nm prochains. Pour l'introduction des prochains noeuds de technologie le rétablissement neuf des OBJECTIFS et les systèmes de Mérite sont des éléments essentiels pour assurer la fabrication des photomasks de haute qualité avec des zéro-défauts. » explique M. Oliver Kienzle, Directeur Général de Division de SMS de Carl Zeiss SMT.

Carl Zeiss a lancé l'année dernière les systèmes de qualification et de réglage de masque pour le noeud 32nm. Les « OBJECTIFS et le Mérite sont bien établis sur le marché comme solution en boucle bloquée pour les masques sans défaut, particulièrement au noeud 65nm et 45nm. Grâce à la coopération étroite avec les abonnées principales nous pourrions développer davantage de technologie de pointe pour dériver les systèmes intenses de prochain rétablissement. » Kienzle continue. Il met en valeur que les abonnées apprécient particulièrement le plan entièrement flexible d'illumination des OBJECTIFS 32-193i et du concept de forte stabilité neuf de plate-forme du système de l'HEURE 32 de Mérite sujet à saisie aux technologies d'avenir comprenant EUV.

Le Mérite basé HR32 de système de réglage de masque d'e-poutre utilise deux stratégies en parallèle pour satisfaire les exigences de la lithographie de 32 nanomètre. La qualité exigée de réglage en termes d'exactitude de définition et d'emplacement est adressée par une plate-forme nouvelle d'e-poutre qui comprend un mini-environnement activement commandé. Cette caractéristique technique fournit un haut niveau de stabilité thermique et mécanique. Le procédé amélioré d'e-poutre aidé par un flexible, système de processus d'approvisionnement en gaz de haut-capacité améliore la stabilité gravure à l'eau forte et la taille de réglage de minimum. En Outre il active des technologies neuves et provocantes de masque comme les masques de type OMOG et d'EUV. La technologie de Mérite établit une solution en boucle bloquée avec AIMS™ pour le réglage de défaut et la vérification de réglage. Les OBJECTIFS neufs 32-193i active l'émulation précise des techniques de la lithographie 32nm telles que la Double Technologie de Structuration, l'Optimisation de Masque de Source et la Lithographie De Calcul.

Basé sur les compétences grandes de Carl Zeiss avec des technologies de lentille de balayeur le système assure la performance balayeur balayeur de représentation par le bloc optique neuf de qualité de LITO®. Un système de flash avancé permet l'émulation de toutes sortes de configurations de l'illumination 193nm. Pour la première fois dans la boîte de vitesses variable d'histoire d'OBJECTIFS dans le pupille d'illumination est maintenant disponible avec les OBJECTIFS 32-193i.

Last Update: 13. January 2012 01:27

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