Il più grande fonderia di semiconduttori del mondo Ordini Carl Zeiss Closed Loop Maschera di riparazione e di verifica per la soluzione del nodo a 32 nm

Published on March 30, 2010 at 3:16 AM

Il mondo più grande fonderia di semiconduttori di Taiwan ha piazzato un ordine combinato per il merito Maschera di sistema di riparazione dei difetti ® HR 32 e il Aerial Measurement System Immagine AIMS ™ 32-193i da Carl Zeiss per prepararsi per la produzione di nuova generazione di fascia alta fotomaschere.

OBIETTIVI 32-193i e di merito HR 32 consentono la produzione di zero difetti fotomaschere al nodo a 32 nm e oltre.

"Come una delle fonderie più avanzate dei nostri clienti è di investire strategicamente per garantire la produzione a zero difetti fotomaschera per il prossimo 32 e 22 nm nodi. Per l'introduzione della tecnologia di prossima nodi della nuova generazione di AIMS e sistemi di merito sono componenti essenziali per garantire la produzione di alta qualità fotomaschere con zero difetti. "Spiega il dottor Oliver Kienzle, Amministratore Delegato di SMS Division di Carl Zeiss SMT.

L'anno scorso Carl Zeiss ha lanciato la qualificazione maschera e sistemi di riparazione per il nodo a 32 nm. "AIMS e merito sono ben affermati sul mercato come un circuito chiuso soluzione per difetto maschere gratis, soprattutto al nodo a 65 nm e 45 nm. Grazie alla stretta collaborazione con i clienti chiave potremmo sviluppare la tecnologia più avanzata per ricavare forti sistemi di prossima generazione. "Kienzle continua. Egli mette in evidenza che i clienti apprezzano soprattutto il sistema di illuminazione completamente flessibile degli obiettivi 32-193i e la nuova alta stabilità concetto di piattaforma del merito HR 32 sistema estendibile per le tecnologie del futuro tra cui EUV.

Il fascio elettronico basato riparazione Merito maschera sistema HR32 utilizza due strategie in parallelo per soddisfare le esigenze di 32 litografia nm. La qualità di riparazione necessari in termini di risoluzione e precisione il posizionamento è rivolta da una nuova piattaforma e-beam che include un attivamente controllato mini-ambiente. Questa funzione fornisce un alto livello di stabilità termica e meccanica. Rafforzata e-beam processo assistito da un flessibile, ad alta capacità del sistema di approvvigionamento di gas di processo etch migliora la stabilità e la dimensione minima riparazione. Inoltre permette la maschera tecnologie nuove e stimolanti come OMOG tipo e maschere EUV. La tecnologia MERIT costruisce un circuito chiuso soluzione insieme con AIMS ™ per la riparazione dei difetti e la verifica di riparazione. Il nuovo AIMS 32-193i permette l'emulazione accurata delle tecniche di litografia 32nm come doppia tecnologia Patterning, Ottimizzazione Maschera Source e litografia computazionale.

Sulla base della vasta esperienza di Carl Zeiss con tecnologie lente dello scanner il sistema garantisce scanner dalle prestazioni simili ad immagini dal nuovo LITO ® ottica grado. Un sistema di illuminazione avanzata permette l'emulazione di tutti i tipi di impostazioni di illuminazione 193nm. Per la prima volta nella storia AIMS trasmissione variabile nella pupilla illuminazione è ora disponibile con obiettivi 32-193i.

Last Update: 4. October 2011 11:57

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