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世界最大的半導體鑄造廠為 32nm 節點指令卡爾蔡司閉合電路屏蔽維修服務和核實解決方法

Published on March 30, 2010 at 3:16 AM

從臺灣的世界最大的半導體鑄造廠發出聯合的訂單屏蔽缺陷維修服務系統 MeRiT® HR 32 和空中圖像測量系統從卡爾蔡司的 AIMS™ 32-193i 為下一代高端光掩膜的生產做準備。

目標 32-193i 和優點 HR 32 啟用以遠零缺陷光掩膜的生產在 32nm 節點的和。

「我們的客戶必須戰略上投資保證無次品即將發布的 32 和 22nm 節點的光掩膜生產最先進的鑄造廠的之一。 對於下個技術節點的簡介目標的新一代和錄用制度是保證優質光掩膜製造的重要要素以零缺陷」。 解釋奧利佛史東 Kienzle,卡爾蔡司 SMT SMS 分部的總經理博士。

去年卡爾蔡司發行了這個 32nm 節點的屏蔽鑒定和維修服務系統。 「目標和優點是源遠流長的在這個市場上作為無瑕疵的屏蔽的一個閉環解決方法,特別是在 65nm 和 45nm 節點。 由於與關鍵客戶的緊密合作我們可能開發進一步先進技術派生嚴格的下一代系統」。 Kienzle 繼續。 他顯示客戶特別是讚賞目標 32-193i 和優點 HR 32 系統的新的高穩定性平臺概念的充分地靈活的照明模式可伸長對將來的技術包括 EUV。

e 射線基於屏蔽維修服務系統優點 HR32 平行使用二個方法適應 32 毫微米石版印刷需要。 根據解決方法和位置準確性的必需的維修服務質量由包括一個有效地受控制迷你環境的一個新穎的 e 射線平臺解決。 此功能提供高級熱量和機械穩定性。 靈活協助解決的改進的 e 射線進程,高功能處理供氣系統改進銘刻穩定性和最小數量維修服務範圍。 此外它啟用像 OMOG 型和 EUV 屏蔽的新和富挑戰性的屏蔽技術。 優點技術與缺陷維修服務和維修服務核實的 AIMS™一起建立一個閉環解決方法。 新的目標 32-193i 啟用 32nm 石版印刷技術的準確仿效例如雙仿造的技術、來源屏蔽優化和計算石版印刷。

基於卡爾蔡司清楚的專門技術有掃描程序透鏡技術的這個系統由新的 LITO® 等級光學保證像掃描程序的想像性能。 先進的照明系統允許各種各樣的 193nm 照明設置的仿效。 第一次在照明學生的目標歷史記錄可變的傳輸對目標 32-193i 現在是可用的。

Last Update: 25. January 2012 17:17

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