Veeco Empfängt Ordnungen für Mehrfache TurboDisc GaN MOCVD-Anlagen von der Entstehungsgeschichte Photonics

Published on April 26, 2010 at 8:29 PM

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO), heute angekündigt, dass es Ordnungen für mehrfaches TurboDisc empfangen hat (R) Galliumnitrid (GaN) MetallOrganische Chemische Bedampfen-Anlagen K465i (TM (MOCVD)) von Genesis Photonics Inc. (GPI), Hauptsitz gehabt in Taiwan, während des ersten Viertels von 2010. GPI verwendet die Anlagen, um die Kapazität für die Produktion von den lichtemittierenden Dioden der hohen Helligkeit (HB LED) zu erhöhen, die durch Anwendungen wie Backlighting, Beleuchtung, Bildschirmanzeigen und Automobilanwendungen getrieben werden.

David Chung, Vorsitzender und CEO von GPI, kommentierte, „Wir sind gewesen sehr erfreut mit der Produktion nachgewiesenen Leistung von Veecos MOCVD-Anlagen, die bereits in unsere Produktionsanlage eingebaut waren. Sie helfen uns, Helligkeit höher zu erzielen als der Industriedurchschnitt. Es war natürlich für uns, die K465i MOCVD-Anlagen für unsere zunehmenden Kapazitätsnachfragen auszuwählen.“

Bill Miller, Ph.D., Senior-Vizepräsident, Generaldirektor von Veecos MOCVD-Operationen kommentierte „das K465i gibt GPI die Technologie, um ihre LED-Helligkeitsstraßenkartenlernziele zu übertreffen und zur Verfügung stellt auch der Industrie, die am preiswertesten ist vom Besitz, von der hohen Produktivität und von den beste in klasseerträgen.“

Mit überlegener Wellenlängeneinheitlichkeit und ausgezeichneter Bodenlauf-zu-geführter Wiederholbarkeit dehnt das Produktion-erwiesene K465i Veecos Leitungskabel in der Haupt-Leistungsfähigkeit - die Anzahl von guten Wafers pro Tag für jeden Hauptdollar - für Großserien-LED-Hersteller aus. Das K465i stellt die Leichtigkeit-von-Justage für schnelle Prozessoptimierung auf Wafergrößen von bis 8 Inches und von schneller Hilfsmittelgenesungszeit nach Pflege zur Verfügung.

Last Update: 12. January 2012 23:28

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