JSR 的協作在驅動 Nanoelectronics 創新的 SEMATECH 幫助下

Published on May 12, 2010 at 7:42 AM

SEMATECH、芯片製造商全球對芯片製造商和其他的財團和 JSR Corporation、高級材料供應商和其美國運算, JSR Micro, Inc. 今天宣佈了它適合 SEMATECH 的最新的成員在學院 Nanoscale 科學和工程抵抗材料和開發中心 (RMDC) (CNSE) 大學在阿爾巴尼。

JSR 與關鍵字的 SEMATECH 工程師在極其紫外石版印刷方面將合作抵抗 (EUV)問題。 重點地區包括:

  • 減少或消滅線路的從事接近在 (LER)平版印刷的圖像的坎坷在 22 毫微米以下
  • 發現最近被公式化的光致抗蝕劑的最終解決方法
  • EUV 區分的測試的多種想像材料

SEMATECH 和 JSR 在幾個技術開發程序以前成為了夥伴,包括 300 mm 測試薄酥餅,低的 k 影片,并且提前抵抗,包括兩次曝光材料。

「我們有合夥企業的一個成功的歷史記錄與 SEMATECH 的,并且我們被激發繼續 EUV 的域的該歷史記錄」,總經理說 Hozumi 佐藤, JSR Corporation 的,負責對研究與開發。 「結合資源創建 EUV 材料的下一代為 JSR 和 SEMATECH 是不僅好,但是有益於整體上這個行業」。

「我們盼望與在我們的相互工作成績的 JSR 一起使用開發前進抵抗和材料,并且加速 EUV 中試線的製造處理可用性」,約翰 Warlaumont,先進技術的副總統說在 SEMATECH 的。 「我們在我們的早先合夥企業的成功的經驗非常地將造成 RMDC 的效果」。

「JSR 的添加對全球公司花名冊的在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech 複雜的進一步將提高在驅動前進 nanoelectronics 創新的 SEMATECH-CNSE 合夥企業」, CNSE 說理查 Brilla,方法、聯盟和財團副總裁。 「此協作啟用在許多的預付款技術,包括 EUV 石版印刷,對行業至關重要」。

來源: http://www.sematech.org/

Last Update: 25. January 2012 20:47

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