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El Nuevo Sistema del Mesa de AdvantEdge Entrega Uniformidad del CD del Sub-Nanómetro

Published on July 13, 2010 at 3:56 AM

Applied Materials, Inc. revelaron hoy su nuevo sistema Aplicado de Centura® AdvantEdge™ Mesa™ para crear características del circuito de la nano-escala con la precisión del angstrom-nivel en dispositivos de la COPITA, del Destello y de Lógica de la siguiente-generación.

Como resultado de este descubrimiento crítico en la tecnología del grabado de pistas del silicio, Aplicada ha experimentado la demanda muy rápida para el sistema del Mesa de AdvantEdge. Más de 60 compartimientos han expidido a los clientes en los tres meses pasados - donde están herramienta-de-archivo para la producción de la viruta 32nm y el revelado 22nm.

Los Materiales Aplicados han experimentado de mucha demanda para su nuevo sistema Aplicado del grabado de pistas del Mesa de Centura AdvantEdge debido a su diseño revolucionario de la fuente que entrega la precisión del angstrom-nivel al borde del fulminante.

“Nuestros clientes' adopción entusiasta del sistema del Mesa de AdvantEdge ilustran la necesidad incumplida fuerte de la industria de la tecnología del grabado de pistas capaz de fabricar los dispositivos de memoria de alta densidad y los microprocesadores económicos de energía,” dijo Ellie Yieh, vicepresidente de la corporación y director general de la división Aplicada del asunto del Grabado De Pistas. “Liberando los fabricantes de chips de la necesidad de compensar limitaciones sistemáticas de la falta de uniformidad, el sistema del Mesa puede ser una herramienta crítica para ayudar a características del circuito del encogimiento de los clientes, controlar el fuga actual y lograr los altos rendimientos de la producción necesarios construir los dispositivos movibles elegantes del futuro.”

El Clave al sistema del Mesa de AdvantEdge es su nuevo diseño inductivo-acoplado (ICP) de la fuente del plasma, que elimina la “firma característica del grabado de pistas” que ha limitado el funcionamiento de todos los sistemas ICP-basados anteriores. La fuente del ICP del Mesa proporciona a un perfil verdaderamente plano, uniforme, permitiendo a la transferencia exacta de los modelos de la litografía fuera al borde extremo del fulminante aumentar importante muere rendimiento. Apuntado para el aislamiento bajo crítico del foso, las líneas soterradas del dígito binario y de palabra, y las aplicaciones dobles del grabado de pistas del silicio que modelan, el funcionamiento de la mejor-en-clase de AdvantEdge del sistema del Mesa entregan falta de uniformidad de la profundidad del grabado de pistas del 1%, uniformidad del CD del sub-nanómetro, y la producción disponible más alta del fulminante.

La base instalada grande Aplicada de los sistemas existentes de AdvantEdge se puede aumentar con la tecnología del Mesa, ofreciendo a fabricantes del dispositivo un camino liso de la mejora para las generaciones múltiples del dispositivo usando una plataforma probada.

El sistema del Mesa de AdvantEdge es una de varias tecnologías importantes que son anunciadas por Aplicado durante SEMICON Al Oeste 2010 en San Francisco.

Fuente: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 12. January 2012 21:40

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