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Imec SiGe आईसी के ऊपर MEMS प्रौद्योगिकी प्लेटफार्म के मूल्य दर्शाता

Published on July 13, 2010 at 8:34 PM

Imec नई MEMS उपकरणों के विकास के साथ MEMS राज्य के-the-कला के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए अपने SiGe ऊपर आईसी MEMS प्रौद्योगिकी मंच के मूल्य को दर्शाता है. नए उपकरणों एक 15μm SiGe micromirror और उच्च संकल्प प्रदर्शित करता है के लिए एक झंझरी प्रकाश वाल्व हैं. उपकरणों imec है जेनेरिक CMOS-संगत CMOS धातुरूप करने की क्रिया के शीर्ष पर सीधे MEMS उपकरणों का अखंड एकीकरण के लिए MEMS प्रक्रिया के साथ महसूस किया गया.

एक 15μm SiGe micromirror की SEM चित्र.

15μm micromirror, डिस्प्ले सिस्टम में इस्तेमाल के लिए डिजाइन, एक अभिनव electrostatic actuation 6 इलेक्ट्रोड पर निर्भर तंत्र का उपयोग करता है. डिजाइन के बजाय वर्तमान के PWM द्विआधारी - तौला अनुरूप पल्स चौड़ाई (PWM) मॉडुलन राज्य के-the-कला micromirrors MEMS आधारित सक्षम बनाता है. इस उपन्यास actuation तंत्र ग्रे पैमाने पर मूल्यों की एक बड़ी रेंज के प्रदर्शन की अनुमति देता है, जबकि द्विआधारी - तौला PWM के उप फ्रेम या बिट विमानों की संख्या पर निर्भर करता है. अनुरूप PWM का उपयोग इस प्रकार उच्च गति प्रतिक्रिया, कम छवि प्रसंस्करण हार्डवेयर और कम स्मृति के लिए होता है. इसके अलावा, अनुरूप PWM के बजाय CMOS स्तर पर MEMS के स्तर पर कार्यान्वित किया जाता है, एक सरलीकृत इलेक्ट्रॉनिक सर्किट की अनुमति.

दूसरी डिवाइस एक झंझरी प्रकाश वाल्व, एक MEMS प्रतिबिंब microbeams के electrostatic विक्षेपन के कारण घटना प्रकाश की नियंत्रित विवर्तन द्वारा एक प्रदर्शन प्रणाली में उज्ज्वल और अंधेरे पिक्सल उत्पादन झंझरी है. झंझरी प्रकाश वाल्व का उपयोग करता है clamped-clamped microbeams जो एक इलेक्ट्रोड पर निलंबित कर दिया है. यह diffracted प्रकाश जब एक actuation वोल्टेज बीम के आधे के लिए लागू किया जाता है की तीव्रता न्यूनाधिक कर सकते हैं. प्रदर्शन इस तरह की तकनीक का उपयोग कर प्रणाली एक उच्च विपरीत अनुपात, उच्च संकल्प और उच्च चमक प्रदान करते हैं. दोनों दर्पण और झंझरी प्रकाश वाल्व एक 300nm मोटी SiGe संरचनात्मक परत के साथ महसूस कर रहे हैं.

उपकरणों फ्लेमी सामरिक मूल (SBO) अनुसंधान परियोजना मिथुन, imec गेन्ट विश्वविद्यालय और कथोलिएके Universiteit लोवेन (KULeuven) के बीच एक सहयोग के फ्रेम में महसूस किया गया है. है Imec MEMS प्रौद्योगिकी मंच, imec है 200mm फैब में स्थापित, MEMS और और एक चिप पर readout ड्राइविंग इलेक्ट्रॉनिक्स एकीकृत, उपकरणों के लिए डिजाइन और प्रक्रिया के लिए इस्तेमाल किया गया है. मंच मानक मॉड्यूल की एक संख्या (CMOS सुरक्षा परत, के माध्यम से MEMS और पाली - SiGe इलेक्ट्रोड लंगर और पाली - SiGe संरचनात्मक परत और एक फिल्म पतली पाली - SiGe पैकेजिंग मॉड्यूल) जो ~ 450 मानक CMOS ऊपर º सी में संसाधित हो सकते हैं के होते हैं . (ऑप्टिकल, piezoresistive जांच, ...) वैकल्पिक मॉड्यूल की जरूरत है कि कार्यक्षमता के आधार पर जोड़ा जा सकता है. एक कम विधानसभा और पैकेजिंग लागत और मौजूदा संकर प्रणालियों की तुलना में एक उच्च प्रदर्शन के साथ और अधिक कॉम्पैक्ट प्रणालियों में इस अखंड दृष्टिकोण का परिणाम है. कंपनियों imec CMORE सेवा (/ www.imec.be CMORE) के माध्यम से इस MEMS प्रौद्योगिकी मंच तक पहुँच प्राप्त कर सकते हैं.

IMEC nanoelectronics में दुनिया की अग्रणी अनुसंधान करता है. Imec leverages अपनी वैज्ञानिक ज्ञान आईसीटी, स्वास्थ्य और ऊर्जा के क्षेत्र में अपनी वैश्विक भागीदारी के नवीन शक्ति के साथ. Imec उद्योग प्रासंगिक प्रौद्योगिकी समाधान उद्धार. एक अद्वितीय उच्च तकनीक वातावरण में, अंतरराष्ट्रीय शीर्ष प्रतिभा के लिए एक स्थाई समाज में एक बेहतर जीवन के लिए इमारत ब्लॉकों प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध है. Imec लोवेन, बेल्जियम में मुख्यालय है, और बेल्जियम, नीदरलैंड, ताइवान, अमेरिका, चीन और जापान में कार्यालयों है. इसकी 1750 से अधिक लोगों के कर्मचारियों के 550 से अधिक औद्योगिक निवासियों और अतिथि शोधकर्ताओं शामिल हैं. 2009 में, imec है राजस्व (पी एंड एल) 275 मिलियन यूरो था.

Imec IMEC इंटरनेशनल की गतिविधियों के लिए एक पंजीकृत ट्रेडमार्क, imec बेल्जियम (IMEC VZW फ्लेमिश सरकार द्वारा समर्थित), imec नीदरलैंड्स (STICHTING IMEC Nederland (बेल्जियम कानून के तहत एक कानूनी इकाई "STICHTING वैन openbaar अखरोट" के रूप में सेट) है, Holst केंद्र का हिस्सा), जो डच सरकार द्वारा समर्थित है, imec ताइवान (IMEC ताइवान कंपनी) और imec चीन (IMEC माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक (Shangai) कं, लिमिटेड).

Last Update: 13. October 2011 19:04

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