卡爾蔡司和SEMATECH聯盟實現光刻計劃的一個重要里程碑

Published on July 30, 2010 at 1:45 AM

SEMATECH和半導體計量系統(SMS)從卡爾蔡司司今天宣布,蔡司“下一代光掩膜登記和覆蓋計量系統已成功地通過了一個重要的發展里程碑。

聯合開發的系統 - 所謂被證明™ - 展示32納米節點的先進的光掩膜的測量能力和下面。在一系列的測試運行,主要規格 - 0.5納米的重複性和1.0納米精度的圖像位置,登記和覆蓋測量 - 驗證。

“掩模圖形放置計量工具項目建立後,已經成功地為面具的航空影像測量系統(AIMS™)工具平台過去的工作夥伴關係之間的卡爾蔡司短信和SEMATECH聯盟。布賴恩水稻,光刻主任在SEMATECH聯盟的夥伴關係,說:“在一個工作會議在32納米半間距節點的計量工具,重複性,再現性和準確性的規格。 “這個行業現在有能力,以確定更小的圖像位置可以測量前的錯誤。實現這些規範是朝著有利的國際技術路線圖(ITRS)半導體 32納米節點及以下的屏蔽要求的一個重要里程碑。這一成就將有助於推動發展的存儲設備和雙重圖形方法所要求的嚴格的覆蓋要求的光掩膜,。“

該工具的性能指標均得益於先進的內存和雙重曝光/雙重圖形的掩模圖形的位置和覆蓋,這將有助於延長 193納米光刻技術的ITRS的要求。

“為了實現被證明™系統的性能規格,是在該項目中的重要里程碑,為我們的客戶的關鍵行業的面具。該系統是基於一個全新的開發平台能夠在最通用的方式在芯片和亞納米模式安置計量。奧利弗 KIENZLE博士,董事總經理卡爾蔡司短信,說:“測量可以做到有效面積的準確和成本效益計量光罩任意生產特點,並擴展到EUV技術。他說:“我們現在將轉出的證明,我們的客戶交付™產品。”

該技術代表了比以前的能力,這主要是由於納入高分辨率193nm的波長成像光學,靈活的照明,最大限度地提高圖像的對比度,在死亡登記分析算法,和一個國家的最先進的一種高度通用的顯著改善計量平台。該系統可充分擴展來衡量的EUV光掩膜。該工具將發揮至關重要的作用,使下一代的光罩製造技術。

SEMATECH的光刻技術項目是在當前和新興的光刻系統提供關鍵的信息和解決方案的行業領先。

卡爾蔡司是選擇發展掩膜製造商和SEMATECH聯盟成員公司的一個評估小組在2007年4月的系統。卡爾蔡司“的建議包括一個新穎的設計,讓面膜製造商,具有高的精度和準確度的光掩膜功能的測量位置偏差。自那時以來,卡爾蔡司和SEMATECH聯盟工程師合作,發展成為一個工作的計量工具概念。

來源: http://www.sematech.org/

Last Update: 7. October 2011 18:06

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