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22nm 半導体材料を特徴付けるために CEALeti に TEM の技術を提供する FEI

Published on February 22, 2011 at 7:31 PM

CEALeti は今日会社がのためのそして向こう高度の半導体材料を 22nm 技術ノード特徴付ける 3 年の一致に入ったことを発表しました。 MINATEC のキャンパスの NanoCharacterization のプラットホームの 2 人のパートナーを持つヨーロッパベースの CEALeti は、 CEALiten (新しいエネルギーのための新しい材料) および CEA-INAC (Nanoscience の協会)、ホログラフィーおよび nanobeam の回折の彼らの専門知識を適用します。

FEI はタイタンのスキャン伝達電子顕微鏡 (S/TEM) を高度の nanobeam の回折の技術に、最も強力な世界商用化された顕微鏡与えます。 会社は半導体の構造の緊張の変更を測定します。

FEI Titam TEM

「研究は 2 つの重要な分野に焦点を合わせます: 、および緊張および他の結晶学パラメータの変更を測定する nanobeam の回折の技術の使用側面図を描く添加物の感度を改善するタイタンの一義的な XFEG の電子ソースのホログラフィーの使用」ジョージ Scholes、副大統領そして FEI の S/TEM の製品種目のための総務部長を言いました。 「タイタン、 FEI とこれらの領域のリーダーはあり、私達は性格描写を彼らの一義的なプラットホームおよび技術を進め続けることの nanoscale の CEALeti と組むことを楽しみにしています」。

「私達は憶病な装置次元をサポートし続けるために側面図を描く添加物の感度、正確さおよびスループットを改善しなければなりません。 そして緊張の効果のよりよい理解は私達が向こう 22nm 技術ノードに技術を押し続けるので高性能 IC 装置の開発で重大」、示されたルディ Kellner、副大統領および FEI の電子工学部の総務部長であり。

ローレント Malier に従って、 CEALeti の CEO、 「私達は彼らの強力な、商用化された顕微鏡のためにだけ、また nanobeam の回折アプリケーションの彼らの特別な専門知識のためにこの 3 年の研究計画の FEI を、使用することを選択しました。 ともに、私達は」。 nanoelectronics でそして nanosciences にもっと一般に使用する材料の性格描写の装置サイズおよびパフォーマンスエンベロプおよびまた挑戦押し続けると同時に半導体工業に直面する複数の重大な技術的な障害物をアドレス指定すると期待します

Last Update: 12. January 2012 19:30

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