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Posted in | Nanolithography

SEMATECH, Sócio de Inpria Para Abordar Desafios da Chave na Litografia de EUV

Published on April 25, 2012 at 2:16 AM

Por Cameron Chai

O consórcio Global dos fabricantes de microplaqueta, SEMATECH relatou que Inpria, um especialista em materiais químicos para o depósito superior do filme fino do óxido do desempenho, assentou bem em um membro de SEMATECH Resiste Materiais e Centro de Revelação (RMDC) na Universidade na Faculdade de Albany da Ciência de Nanoscale e da Engenharia (CNSE).

Como parte do programa da litografia de SEMATECH, SEMATECH e Inpria partner na chave resistem desafios na litografia ultravioleta (EUV) extrema. Inpria inorgánico resiste demonstra a resistência muito alta gravura em àgua forte e resolveu 11 características da linha/espaço do nanômetro. Nesta parceria, SEMATECH e Inpria usarão estes alta resolução resistem para a qualificação de 0,5 sistemas óticos da imagem lactente do NA EUV no núcleo das elevações principais em curso para avançar resistem a pesquisa para o metade-passo do £ 11 nanômetro em RMDC. Inpria igualmente melhorará o seu resiste a fotossensibilidade dos materiais para cumprir necessidades da produtividade para próximos aplicações de produção.

A parceria entre SEMATECH e Inpria será construída em materiais do semicondutor de Inpria liderança reputado e em processos e no mercado de modelação avançados de SEMATECH, experiência do semicondutor, e rede de grande envergadura da experiência e do hardware da pesquisa. RMDC oferecerá o acesso às ferramentas numerosas da metrologia e duas às ferramentas da micro-exposição instaladas em CNSE e no University Of California, Berkeley.

De acordo com Andrew Grenville, o Director Geral em Inpria, a empresa pode leverage esta colaboração para acelerar a revelação de materiais da litografia de EUV. Esta parceria é um outro testamento ao comprometimento da empresa para endereçar as edições principais da litografia encontradas pela indústria do semicondutor.

O Director da Litografia, Stefan Wurm de SEMATECH indicou que esta colaboração reforçará a capacidade de RMDC para abordar a chave resiste desafios em materiais avançados e encontra ràpida soluções apropriadas para estes desafios comuns da tecnologia.

Source: http://www.sematech.org

Last Update: 25. April 2012 03:31

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