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Los Investigadores de Fraunhofer Desarrollan los Componentes Claves para la Litografía de EUV

Published on May 11, 2012 at 2:41 AM

Por Cameron Chai

Los Investigadores en tres Institutos de Fraunhofer han ideado los componentes claves para la litografía de EUV.

Componentes claves En Común desarrollados para la litografía de EUV: El Dr. Torsten Feigl, el Dr. Stefan Braun y el Dr. Klaus Bergmann (de izquierda a derecha) con un espejo del colector. © Dirk Mahler/Fraunhofer

Las personas del Dr. Klaus Bergmann del Instituto de Fraunhofer para la Tecnología Láser han desarrollado fuentes de luz, mientras que las personas del Dr. Torsten Feigl del Instituto de Fraunhofer para la Ingeniería de la Óptica Aplicada y de Precisión han desarrollado la óptica del colector y las personas del Dr. Stefan Braun del Instituto de Fraunhofer para la Tecnología del Material y del Haz ha diseñado la óptica de la iluminación y de la proyección.

2012 José-von-Fraunhofer prize serán concedidos a las personas implicadas en esta colaboración estratégica para sus logros notables. Las personas del Dr. Bergmann diseñaron los primeros prototipos de la fuente de EUV en 2006. Una versión beta se está utilizando ya en aplicaciones industriales para exponer virutas. Bergmann informó que el desbloquear rápido, pulsado de la energía eléctricamente salvada es la base del concepto. En el método, un laser fue utilizado para vaporizar una cantidad de trazo del estaño, que entonces fue agitado varias veces por segundo a una emisión en 13,5 nanómetro usando un de gran intensidad.

La calidad de un espejo del colector es el clave para permitir que la radiación golpee la máscara de la exposición en la mancha derecha exactamente. La capa asegura las bajas mínimas y la calidad superior, radiación enfocada de EUV. El Dr. Feigl declaró que el reto hecho frente por las personas era diseñar un sistema de capa de múltiples capas con estabilidad superior de la radiación, estabilidad térmica y la reflexión de EUV y aplicarlo sobre una superficie curvada del colector. El sistema resultante es más de 660 un espejo revestido de múltiples capas de milímetro-diámetro EUV, que se marca como el más grande de su clase en el mundo.

Los espejos de la Proyección se utilizan para exponer la radiación que pasó la máscara sobre las virutas. Las personas del Dr. Braun han desarrollado la capa óptima de la reflexión para los espejos de la proyección. Exactitud óptima de la capa de las ofertas del chisporroteo del Magnetrón sin la necesidad del mando de espesor "in-situ" o de los procesos de pulido adicionales.

El nuevo sistema de la litografía de EUV se anticipa para comenzar la producción comercial en 2015.

Fuente: http://www.fraunhofer.de

Last Update: 11. May 2012 03:23

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