Nanopatterning の解決の提供者は多重押印のモジュールのための発注を受け取ります

Published on September 25, 2012 at 6:22 AM

意志 Soutter によって

分子押印、提供者および高解像の nanopatterning システムの解決は、段階的なシステムに統合のために多重押印のモジュールを手に入れるために主要な半導体装置の会社からの購入指示書を保護しました。

これらのモジュールは分子押印」洗練された半導体メモリー装置の大量生産に必須パフォーマンスを提供する社内ジェット機およびフラッシュ押印の石版印刷 (J-FIL) の技術から成り立ちます。

分子押印」最新の J-FIL の技術は単一の模造のステッププロセスを利用する 10 nm によりよく重大な次元の均等性 (1.2 nm CDU の 3 シグマ) およびスケーラビリティのライン端の荒さ (<2 nm LER の 3 シグマ) と模造する 24 nm を示しました。 J-FIL の技術の複雑な光学レンズおよび (CoO)ミラーの超高感度の光硬化性樹脂を利用するイメージ投射の複雑さの除去によって達成される所有権の利点の本質的な費用は力は EUV の光源を限定し、それに半導体メモリー装置の生産のための理想をします。

J-FIL が準備最後の生産段階にである分子押印の」社長兼最高経営責任者、マーク Melliar スミス、この多重モジュールの購入指示書顧客」の信任投票に従って反映します。 会社の内部チームは開発の作業のための装置そして商業マスクパートナーと団結し、全面的な鳴き声および defectivity の領域の過去の 1 年の重要な進歩を、特に達成しました。 会社は J-FIL の技術の商業化の次の段階を予想して、未来のための半導体メモリー装置道路地図を促進するために順方向に見ています。

ソース: http://www.molecularimprints.com

Last Update: 25. September 2012 08:07

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