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Neue Mikroskopie-Technik Überwacht und Steuert Ätzverfahren auf Nanoscale

Published on September 29, 2012 at 7:51 AM

Durch Willen Soutter

Ein Forschungsteam, das von Professoren Gabriel Popescu und Lynford Goddard von der Universität von Illinois geführt wird, hat eine billige Technik unter Verwendung einer speziellen Art Mikroskop entwickelt, um empfindliche Merkmale auf der Oberfläche von Halbleitern, beim den Gesamtprozess gleichzeitig überwachen in der Istzeit mit nanoscale Auflösung zu ätzen.

Dieses ist ein dreidimensionales Bild der Universität Illinois-Zeichens geätzt in einen Galliumarsenidhalbleiter, genommen während der Radierung mit einer neuen Mikroskopietechnik, die das Ätzverfahren auf der nmschuppe überwacht. Die Höhendifferenz zwischen den orange und purpurroten Regionen beträgt ungefähr 250 nm. (Foto durch Chris Edwards, Emir Arbabi, Gabriel Popescu und Lynford Goddard)

Das Mikroskop verwendet zwei Lichtstrahlen zum Bild und schnitzt die Topographie mit sehr hoher Präzision. Goddard informierte sich, dass das Konzept auf der Möglichkeit des Messens der Höhe der Zelle basiert, wenn die Leuchte weg von den verschiedenen Oberflächen reflektiert erhält. Die Ätzungskinetik kann bestimmt werden, indem man die Änderungen in der Höhe beobachtet und das Team aktiviert, das Ätzverfahren zu überwachen. Dieses aktiviert der Reihe nach das Team, die Ätzungskinetik über Platz sowie über Zeit an jeder Stelle auf dem Halbleiterwafer zu bestimmen, der innerhalb des Blickfeldes des Mikroskops kommt.

Vorhandene Techniken von Scannentunnelbaumikroskopie oder von Atomkraftmikroskopie sind nicht zum Überwachen des Ätzverfahrens in seinem Fortschritt fähig. Die neue Technik ist schneller, weniger laut, billig, und ist lediglich optisch, die die Überwachung des gesamten Wafers sofort eher als Punkt für Punkt aktiviert, ohne die Halbleiteroberfläche zu berühren.

Außer dem Beobachten des Ätzverfahrens, dient die Leuchte, als ein Katalysator für den Prozess photochemische Radierung zurichtete. Um erforderliche Merkmale, werden Masken mit eindeutigen Mustern des Graus zu erstellen verwendet um die Leuchte durch Grad, einen Prozess zu glänzen der Zeit raubend und teuer ist. Durch Vergleich in der neuen Technik, wird ein Grayscalebild auf die Probe unter Radierung unter Verwendung eines Projektors geglänzt und so erlaubt dem Team, verwickelte Muster leicht und schnell zu bilden, sowie sie einstellt, wann immer benötigt, indem man einfach das Projektormuster ändert.

Nach Ansicht der Forscher ist diese Methode in der Echtzeitüberwachung des Selbstbaus von Kohlenstoff nanotubes oder in der Fehlerüberwachung in der Massenproduktion von Computerchips viel versprechend. Sie ermöglicht möglicherweise Chip-Hersteller, um Verarbeitungszeit und Ausgaben zu senken, indem sie kontinuierlich die Kalibrierung ihres Geräts sicherstellen.

Quelle: http://www.illinois.edu

Last Update: 29. September 2012 08:55

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