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高度のフォトマスクのための Advantest からの新しいマスクの欠陥の検討のツール

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

フォトマスクのブランクの超小さい欠陥を見直し、分類するための新しいマスクの欠陥の検討のツール、マスク DR-SEM E5610 を、発達させたことを Advantest Corporation は今日発表しました。

マスク DR-SEM E5610 (写真: ビジネスワイヤー)

E5610 はフォトマスクの絶賛されたマルチ視野の度量衡学 SEM のための Advantest によって開発される非常に安定した、フルオートの画像の捕獲の技術を受継ぎ斜角でスキャンを可能にする新開発のビーム傾きのメカニズムを特色にします。 高精度によって、高スループット欠陥の検討の機能は次世代のフォトマスクの製品品質の改善およびより短い製造 TAT (送受反転時間) に貢献すると、 E5610 期待されます。

E5610 は Advantest の展示品 (ホールのブース #3D-803 SEMICON 日本の展示会の 3)、千葉県での Makuhari Messe の 12 月 5-7 日特色になります。

次世代のフォトマスクの製造業の解決

 フォトマスクの製造工程は TAT の減少と連繋して不利に収穫に影響を与える致命的な欠陥の 100% の絶滅を必要とします。 Advantest の新しい E5610 は正確な技術満たすマスクの製造業者のための不可欠な解決に両方の条件を欠陥を分類し、タイプに関して適切な修理解決を診断する速くであると、約束します。

製品の機能

高い空間分解能及び斜めのスキャンの機能

Advantest の専有コラムアーキテクチャはフォトマスクのスクリーニングのために適切な低い加速電圧で 2nm に空間分解能を、提供します。 さらに、 E5610 はビームが 15° までによって傾くようにする一義的な、電気で制御された傾きのモジュールを特色にしま 3D 欠陥の検討を行うことをユーザーが可能にします。

非常に安定した、フルオートの画像の捕獲

高い SEM の拡大で作動して時でさえ、 E5610 はスループットの安定した、フルオートの欠陥イメージ投射、高精度な段階への感謝、料金の制御機能および汚染の減少の技術を高いレートで行います。

マスクの検査システムと互換性がある

E5610 は主流マスクの検査システムと互換性があります: ツールは欠陥の位置のデータおよび自動的に画像を位置インポートします。 それは業界標準 KLARF の (KLA はファイル生じます) フォーマットをサポートします。

元素構成の分析オプション

E5610 は元素マスクのブランク欠陥をマップする分析によって進められる方法を行う任意選択 EDS (エネルギー分散 X 線の分光測定) のモジュールを特色にします。

ソース: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:49

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