Tegal Recibe la Pedido para la Herramienta del Atado de PVD de la Fundición Superior de la Fila MEMS

Published on June 9, 2007 at 12:02 AM

Tegal Corporation, proyectista de cabeza y fabricante de grabado de pistas del plasma y de sistemas de la deposición usados en la producción de los circuitos integrados, MEMS, y los dispositivos de la nanotecnología, anunciados le había recibido una orden para un Esfuerzo EN (TM) la herramienta del atado de PVD de una fundición de la parte-fila MEMS situada en Europa. El sistema del Esfuerzo será instalado en el cliente reciente-desplegado 150m m MEMS fabuloso, y utilizado para producir los dispositivos de MEMS para los mercados electrónicos de la telecomunicación, automotores, biomédicos, y del consumidor.

“El sistema del Esfuerzo PVD fue seleccionado por nuestro cliente en base del historial de la producción del Esfuerzo, su flexibilidad, y en la calidad de las películas EN las cuales el Esfuerzo (TM) produce,” dijo a Thomas Mika, Presidente y CEO de Tegal Corporation. “Los clientes del MEMS de Tegal, como esta fundición importante de MEMS, están invirtiendo en capacidad de producción desplegada de utilizar la demanda de afluencia para los dispositivos de MEMS en aplicaciones tales como micrófonos del silicio del microteléfono del teléfono celular, donde se prevee que las remesas de la unidad dupliquen, a partir el 300M a los 600M anuales, en 2009. Nuestro Esfuerzo EN el sistema (TM) fue comprado para utilizar estas necesidades comerciales de la fabricación de MEMS.”

El Esfuerzo de Tegal EN el sistema (TM) es una herramienta del atado del vacío avanzado, ultraalto PVD usada en fabs de la producción para depositar las películas de la pureza constante, elevada, con ciclón a los valores cero de la tensión, en un ambiente de proceso extremadamente limpio. Estas películas se utilizan extensamente en aplicaciones de la metalización del bajo-topetón, el empaquetado avanzado, dispositivos de potencia, máscaras de la foto (EUV incluyendo), los diodos electroluminosos de la alto-brillantez (Hb-LED), y en crear los dispositivos electroacústicos para FBARs y RF MEMS. El Esfuerzo EN (TM) tiene una comunicación fácil de usar del GUI, de SECS/GEM, el fulminante seguro del inferior-contacto que manipula, y capacidad flexible de la dimensión de una variable y de la talla del fulminante, que le hace el ideal para los ambientes de producción ultra-limpios para las aplicaciones de la delantero-cara y de la parte trasera. Los módulos libres de daños Opcionales del suave-grabado de pistas, y una variedad de configuraciones del magnetrón del RF, están disponibles para chisporrotear mucho diverso dieléctrico y las películas conductoras usados en el semiconductor, el MEMS, y la otra producción del dispositivo electrónico.

Last Update: 4. June 2015 06:14

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