Site Sponsors
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

Acuerdo del Señal de ASML, de Zeiss y de Canon en Carteras de la Patente del Equipo de la Litografía del Semiconductor de la Autorización

Published on December 31, 2007 at 9:33 AM

ASML Que Llevaba A Cabo el NANOVOLTIO y Carl Zeiss SMT anunciaron que cada uno ha firmado un acuerdo con Canon Inc. para la cruz-licencia global de patentes en sus campos respectivos de la litografía del semiconductor y de los componentes ópticos, usados para fabricar los circuitos integrados, o las virutas.

ASML y Zeiss con sus esfuerzos actuales grandes y resultar de la investigación y desarrollo saben, dé la bienvenida a este acuerdo con Canon, con su cartera sustancial de la patente. No habrá transferencia de la tecnología, que significa que ASML y Zeiss continuarán competir con todos los jugadores en el mercado en base de su capacidad para traer tecnologías de cabeza para comercializar.

La cruz-licencia ayuda a las tres compañías a competir más libremente en el área relevante a sus clientes, que es experiencia y puesta en vigor de la tecnología, bastante que en los derechos de propiedad intelectual (IP). ASML y Zeiss están comprometidos fuertemente a la inversión en la investigación y desarrollo y continuarán su acumulación de saben e IP.

El acuerdo significa que las compañías pueden comercializar los productos basados en la tecnología revestida por las patentes equipo-relacionadas de la litografía del otro destacamento.

Last Update: 17. January 2012 09:20

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit