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Carl Zeiss Esegue l'Acquisizione della Tecnologia di Pixer

Published on October 2, 2008 at 11:32 AM

Dopo Che il closing convenzionale della sua acquisizione recente di Karmiel (Israele) ha basato Tecnologia Srl di Pixer, la divisione di Sistemi della Metrologia A Semiconduttore di Carl Zeiss SMT (SMS) presenta la sua serie leader di mercato delle soluzioni a circuito chiuso del prodotto al Simposio di Europa di Semicon (Stuttgart, Germania) e del Photomask di SPIE/BACUS (Monterey, CA).

“Siamo soddisfatti di annunciare che l'acquisizione della Tecnologia di Pixer sia stata formalmente chiusa e che abbiamo inizializzato l'integrazione delle operazioni, della R & S e delle serie di prodotti in SMS„, abbiamo detto il Dott. Oliver Kienzle, Membro della Scheda di Divisione di SMS di Carl Zeiss SMT. “Per la prima volta, potremo video il nostro portafoglio ingrandetto delle soluzioni del prodotto per la qualificazione del photomask, la metrologia, la riparazione ed il controllo critico di dimensione (CDC). Con l'aumento dell'elaborazione in litografia ottica come la litografia di immersione e doppio modello, capiamo che i creatori della maschera stiano affrontando le specifiche più strette della maschera, in particolare per l'uniformità critica ed il foglio di prova di dimensione„, abbiamo spiegato Kienzle e siamo continuato: “Con l'acquisizione recente della Tecnologia di Pixer più ulteriormente abbiamo rinforzato il nostro portafoglio della tecnologia e possiamo offrire ai nostri clienti le soluzioni complete per abbinare queste sfide.„ Per esempio, i requisiti più stretti dell'uniformità del CD possono essere fabbricazione raggiunta della post-maschera dal sistema rivoluzionario CDC200. Con la finestra trattata aumentata risultante nel trattamento della litografia, i produttori di IC possono aumentare i loro rendimenti della fine della linea e diminuire i loro costi di produzione.

La Tecnologia di Pixer ha sviluppato le tecnologie uniche di potenziamento del rendimento per i photomasks nella produzione a semiconduttore, corrente riflesse in due serie di prodotti: CDC200 è l'industria soluzione al volo e integrata prima per Controllo Critico ad alta definizione di Dimensione (CDC), permettendo sia ai Creatori della Maschera che ai Produttori di IC di gestire i Cd locali (Dimensioni Critiche) come pure di migliorare significativamente sopra l'Uniformità globale e locale del CD attraverso le maschere ed i wafer durante le operazioni litografiche. La seconda serie di prodotti, Galileo, permette alla misura ed alla mappatura ad alta velocità della degradazione della trasmissione di DUV sulle maschere di produzione con la sensibilità ai cambiamenti della trasmissione di 0,1%. Progettato per la mappatura delle maschere di produzione nel Favoloso per identificare le emissioni di degradazione di CDU e del rendimento quale foschia, può essere utilizzata ulteriormente per sia quarzo che gli spazii in bianco ricoperti MoSi.

Last Update: 17. January 2012 07:44

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