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Carl Zeiss Executa a Aquisição da Tecnologia de Pixer

Published on October 2, 2008 at 11:32 AM

Depois Que o closing formal de sua aquisição recente de Karmiel (Israel) baseou Tecnologia Ltd. de Pixer, a divisão de Sistemas da Metrologia do Semicondutor de Carl Zeiss SMT (SMS) apresenta sua série líder de mercado de soluções do produto do circuito fechado no Simpósio do Europa de Semicon (Estugarda, Alemanha) e do Photomask de SPIE/BACUS (Monterey, CA).

“Nós somos satisfeitos anunciar que a aquisição da Tecnologia de Pixer foi formalmente fechado e que nós inicializamos a integração das operações, do R&D e das linhas de produtos em SMS”, dissemos o Dr. Oliver Kienzle, Membro da Placa da Divisão de SMS de Carl Zeiss SMT. “Pela primeira vez, nós poderemos indicar nossa carteira ampliada das soluções do produto para a qualificação do photomask, a metrologia, o reparo e o controle crítico da dimensão (CDC). Com sofisticação crescente na litografia óptica tal como a litografia da imersão e a modelação dobro, nós compreendemos que os fabricantes da máscara estão enfrentando umas especificações mais apertadas da máscara, em particular para a uniformidade crítica e a folha de prova da dimensão”, explicamos Kienzle e continuamos: “Com a aquisição recente da Tecnologia de Pixer nós reforçamos mais nossa carteira da tecnologia e podemos oferecer a nossos clientes soluções detalhadas combinar estes desafios.” Por exemplo, as exigências mais apertadas da uniformidade do CD podem ser fabricação conseguida da cargo-máscara pelo sistema CDC200 revolucionário. Com o indicador aumentado resultante do processo no processo da litografia, os fabricantes do IC podem aumentar sua fim--linha rendimentos e reduzir seus custos de fabrico.

A Tecnologia de Pixer desenvolveu as tecnologias originais do realce do rendimento para photomasks na produção do semicondutor, refletidas actualmente em duas linhas de produtos: CDC200 é a primeira em--mosca da indústria, solução integrada para o Controle Crítico de alta resolução da Dimensão (CDC), permitindo Fabricantes da Máscara e Fabricantes do IC de controlar Cd locais (Dimensões Críticas), assim como de melhorá-los significativamente em cima da Uniformidade global e local do CD através das máscaras e das bolachas durante operações litográficas. A segunda linha de produtos, Galileo, permite a medida e o traço de alta velocidade da degradação da transmissão de DUV em máscaras da produção com sensibilidade às mudanças da transmissão de 0,1%. Projetado para traçar máscaras da produção no Fabuloso para identificar edições do rendimento e da degradação de CDU tais como o embaçamento, pode adicionalmente ser utilizada para o quartzo e placas revestidas MoSi.

Last Update: 14. January 2012 15:59

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