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SOKUDO Per Unire Programma Multiplo di Litografia del E-Raggio

Published on September 17, 2010 at 4:59 AM

SOKUDO Co., Srl, il cappotto della litografia/sviluppano la pista, strumentazione trattata, joint venture e CEA-Leti oggi ha annunciato che SOKUDO unirà il nuovo multi-partner che ricerca/dell'industria il programma IMMAGINA che sta sviluppando la litografia maskless per la fabbricazione di IC.

Il progetto triennale piombo da CEA-Leti, l'istituto di ricerca Francese principale a semiconduttore ed egualmente include i produttori TSMC e STMicroelectronics a semiconduttore. Sta valutando un'infrastruttura maskless della litografia e l'uso degli strumenti della Litografia del RILEVAMENTO per alta capacità di lavorazione. Il programma multiplo della e-raggio-litografia riguarda un approccio globale alla tecnologia, compresi la valutazione dello strumento, modellare ed integrazione trattata, della manipolazione dei dati, modello e l'analisi dei costi.

“il E-Raggio ha il potenziale di essere una tecnologia possibile per molti livelli di trattamento della litografia di sub-22nm nella logica/nella fabbricazione a semiconduttore della fonderia,„ ha detto Tadahiro Suhara, presidente e direttore generale di SOKUDO. “SOKUDO sta adottando un approccio completo alla preparazione per il cappotto/sviluppa la prontezza trattata della pista nelle tecnologie multiple della litografia di sub-22nm, compreso le estensioni della litografia di ArF di immersione, EUV e la litografia del e-raggio. Il CEA-Leti IMMAGINA che la collaborazione riunisca uno sforzo concentrato per permettere alla litografia produzione-degna del e-raggio, compreso il multiplo resista al tasto dei produttori allo sviluppo trattato di sub-22nm.„

“Stiamo lavorando con il RF3 di SOKUDO cappotto-e-sviluppiamo il sistema di pista per molti anni ed il programma dell'IMMAGINAZIONE trarrà giovamento dalla forte conoscenza e supporto di SOKUDO nello sviluppare i trattamenti necessari per supportare tecnologia maskless,„ ha detto Serge Tedesco, CEA-Leti program manager. “L'esperienza in CEA-Leti nella tecnologia del e-raggio combinata con SOKUDO cappotto-e-sviluppa la competenza della pista aiuterà sicuro l'infrastruttura trattata necessaria per la multi litografia del e-raggio.„

La Litografia B.V. del RILEVAMENTO, basata a Delft, I Paesi Bassi, fa i commputer della maskless-litografia per l'industria a semiconduttore. Sta supportando il progetto dell'IMMAGINAZIONE con le sue piattaforme in maniera massiccia parallele del fascio di elettroni.

Sorgente: http://www.leti.fr/

Last Update: 12. January 2012 09:25

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