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分子出版公司推出新的Jet和闪光压印光刻掩模复制平台

Published on January 13, 2011 at 4:40 AM

分子出版公司,纳米压印光刻系统和解决方案的市场和技术的领先者,今天推出Perfecta MR5000 - 新的Jet和Flash™压印光刻(J - FIL™)印记面膜半导体产业的复制平台。

代表行业的第一nanopatterning系统,专门复制6025印记口罩,在Perfecta MR5000使多个完全相同的副本,以被从一个单一的电子束主编造口罩,大幅降低掩模成本,印记的使用提供低拥有成本的一项重要内容在先进的非易失性内存架构。

分子出版公司还高兴地宣布,商人口罩半导体行业的领先供应商,大日本印刷公司(DNP),已交付第一MR5000系统,进一步密切和两家公司之间的继续合作在半导体制造2Xnm和超越压印口罩的发展。

“一个可行的低成本的图形技术,将生产的重要推动者,下一代固态存储器成本效益,特别是在先进的内存设备,如3D存储器的光刻技术密集型的架构,”分子出版公司表示,马克Melliar - 史密斯,首席执行官。 “半导体制造商已经在利用了我们的J -富达在其发展方案的技术高逼真度的图案表现。的Perfecta MR5000提供领先的,高品质的印记口罩能力在地方关键的基础设施组件压印的生产通过所必需的使“。

“我们购买的Perfecta MR5000反映DNP的持续的技术服务与先进的光掩膜解决方案的半导体行业的领导和承诺,”根据军第一土屋,DNP电子设备业务的总经理。 “我们将利用这个系统开发的面具复制过程中,我们的纳米压印光刻技术的客户和合作伙伴在2011年提供副本。”

Perfecta MR5000 nanopatterning技术的一个显着的进步。以电子束的书面前沿6025“大师”面具,该系统能够完美地转移到6025可以接受由一个制造晶圆压印光刻系统的副本模式。拥有该公司的增强IntelliJet™掉落模式发生器技术,在Perfecta MR5000省却皮升抵制映射到本地的功能密度,使优秀的残留层厚度(RLT)模式2Xnm功能传输的保真度的均匀性液滴,同时几乎消除抵制废物处置的需要。通过产生多个“副本”口罩,“主从单一,”面具拥有成本可显着降低,并有助于晶圆光刻工艺的整体低成本的所有权。

“我们的客户和行业合作伙伴,继续投资在纳米压印技术作为替代日益昂贵和复杂的的视觉光学图案提出,Melliar - 史密斯。” “的势头的持续增长和Perfecta MR5000代表在基础设施建设提供制造解决方案,为半导体存储器应用纳米压印和J - FIL一个重要的一步。”

来源: http://www.molecularimprints.com/

Last Update: 5. October 2011 19:31

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