分子出版公司推出新的Jet和閃光壓印光刻掩模複製平台

Published on January 13, 2011 at 4:40 AM

分子出版公司,納米壓印光刻系統和解決方案的市場和技術的領先者,今天推出Perfecta MR5000 - 新的Jet和Flash™壓印光刻(J - FIL™)印記面膜半導體產業的複製平台。

代表行業的第一nanopatterning系統,專門複製 6025印記口罩,在Perfecta MR5000使多個完全相同的副本,以被從一個單一的電子束主編造口罩,大幅降低掩模成本,印記的使用提供低擁有成本的一項重要內容在先進的非易失性內存架構。

分子出版公司還高興地宣布,商人口罩半導體行業的領先供應商,大日本印刷公司(DNP),已交付第一MR5000系統,進一步密切和兩家公司之間的繼續合作在半導體製造 2Xnm和超越壓印口罩的發展。

“一個可行的低成本的圖形技術,將生產的重要推動者,下一代固態存儲器成本效益,特別是在先進的內存設備,如3D存儲器的光刻技術密集型的架構,”分子出版公司表示,馬克 Melliar - 史密斯,首席執行官。 “半導體製造商已經在利用了我們的J -富達在其發展方案的技術高逼真度的圖案表現。的Perfecta MR5000提供領先的,高品質的印記口罩能力在地方關鍵的基礎設施組件壓印的生產通過所必需的使“。

“我們購買的Perfecta MR5000反映DNP的持續的技術服務與先進的光掩膜解決方案的半導體行業的領導和承諾,”根據軍第一土屋,DNP電子設備業務的總經理。 “我們將利用這個系統開發的面具複製過程中,我們的納米壓印光刻技術的客戶和合作夥伴在2011年提供副本。”

Perfecta MR5000 nanopatterning技術的一個顯著的進步。以電子束的書面前沿6025“大師”面具,該系統能夠完美地轉移到6025可以接受由一個製造晶圓壓印光刻系統的副本模式。擁有該公司的增強 IntelliJet™掉落模式發生器技術,在Perfecta MR5000省卻皮升抵制映射到本地的功能密度,使優秀的殘留層厚度(RLT)模式2Xnm功能傳輸的保真度的均勻性液滴,同時幾乎消除抵制廢物處置的需要。通過產生多個“副本”口罩,“主從單一,”面具擁有成本可顯著降低,並有助於晶圓光刻工藝的整體低成本的所有權。

“我們的客戶和行業合作夥伴,繼續投資在納米壓印技術作為替代日益昂貴和複雜的的視覺光學圖案提出,Melliar - 史密斯。” “的勢頭的持續增長和Perfecta MR5000代表在基礎設施建設提供製造解決方案,為半導體存儲器應用納米壓印和J - FIL一個重要的一步。”

來源: http://www.molecularimprints.com/

Last Update: 5. October 2011 19:31

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