由SEMATECH联盟光刻技术在SPIE大会提交进展

Published on February 18, 2011 at 4:49 AM

SEMATECH联盟的专家将目前的极端紫外线世界领先的研究和发展成果(EUV)可制造性和可扩展性,替代光刻技术及相关领域的计量在SPIE先进光刻2011年2月27日会议 - 3月3日在圣何塞会议中心和万豪酒店在加利福尼亚州圣何塞,。

“我们非常热衷于EUV技术基础设施的发展,最关键的环节上分享我们的进步,说:”布赖恩水稻,光刻主任在SEMATECH联盟。 SEMATECH联盟“通过激烈的研究和开发工作,继续使极紫外光刻的试验生产线的准备和推进EUV技术的可扩展性和替代光刻生产业界领先的结果。”

SEMATECH联盟工程师将EUV掩模基础设施,制造,推进可扩展性,替代光刻技术,计量报告的进展情况和将一些他们的研究结果展示20多个展示突破性成果的论文,在曝光工具的能力,抗拒进步,缺陷相关的检查,掩膜处理,并压印。

更重要的是,结果将在余下的基础设施带来EUV技术,以满负荷生产所需的驾驶及时创造。在调查的一个区域,从SEMATECH的面具空白开发中心的技术专家将报告其多层沉积过程的进展情况。具体来说,SEMATECH联盟,与检测工具供应商合作,已查明的缺陷来源和验证缺陷的缓解技术。

SEMATECH联盟的其他文件将展示在测量技术的进步,光致抗蚀剂的收缩,散射,非破坏性的TSV刻蚀深度,CD - SAXS - 一个可能的X射线计量光盘技术为未来的节点 - 在NIST和光学CD计量技术,正在开发是去年的R&D杂志的R&D 100大奖得主。

“先进的开发计量计划汇集了世界一流的研究人员和工程师一起进入关键化验分析设备,提供先进的测量能力,我们的成员和半导体界,SEMATECH联盟,计量主管布莱森说:”菲尔。 “我们很高兴能与8月在SPIE组装的技术人员,发挥了越来越显著的作用,在推动半导体产业对子孙后代社区分享我们的成果。”

SPIE会议系列在全球半导体界的聚会,吸引了数以千计的专家,在各方面的光刻技术和相关的计量,两个先进的芯片生产的最具挑战性的领域。

来源: http://www.sematech.org/

Last Update: 3. October 2011 15:52

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