ENIAC JU 榮譽稱號納米技術創新的改善和透鏡項目

Published on November 22, 2012 at 4:37 AM

與處理 70 在半導體製造效率的聯合的預算值的二個研究計劃百萬歐元達到的重大的預付款和認可了與在歐洲 Nanoelectronics 論壇的 2012 个 ENIAC JU 創新證書。

改進項目合作夥伴開發了設備工作情況的計算設計和歷史記錄使虛擬計量學、預計維護和自適應控制計劃顯著地改進處理量、穩定性和增殖率和整體薄酥餅很好的效率。 STMicroelectronics 的弗朗索瓦 Finck,項目協調人,說: 「请在歐洲改善,與行動的六個製造商與 14 位研究實驗室,協會和學術和 10 位行業解決方法提供者合作顯著地提前科技目前進步水平在製造科學和準備好競爭基於效率和創新」。

在透鏡, 12 個合作夥伴顯著地先進設計、屏蔽、計量學、風險工具、材料和處理綜合化使用兩次曝光的系統在籌碼和間隔號根據加倍為了相變內存的間距能擴大現任者浸沒石版印刷技術的適用性。 ASML 的 Gerold Alberga,項目協調人,說: 「透鏡用 32 包括全部的石版印刷供應鏈,展示仿造的解決方法兼容 - 22nm 內存和邏輯裝置的技術節點使用浸沒風險工具,從而允許半導體設備的下一代的及時和經濟上高效的發展」。

從 ENIAC JU 和 ENIAC 成員國的項目被接受的授予 (请改善: 奧地利、法國、德國、愛爾蘭、意大利和葡萄牙; 透鏡: 比利時、法國、意大利、西班牙和荷蘭)。

通配的安德烈亞斯, ENIAC JU 執行董事,說: 「请改善,并且透鏡在開放和競爭提案召喚被選擇了從 2008年,并且今年來到完成。 在 2008年和 2011年之間, ENIAC JU 程序開始了與超出 10億歐元的聯合的預算值的 40 個項目,確認官民合夥企業有在激發創新的相當大的影響」。

在同一個場合,尤里卡字符串 CATRENE 存在了其創新證書對這個項目 EXEPT。

來源: http://eniac.eu/

Last Update: 22. November 2012 05:31

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