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Las Impresiones Moleculares Anuncian el Sistema 1100 de la Litografía de la Impresión de la Precisión de Imprio

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Molecular Imprints, Inc. (MII) ha revelado la última adición a su línea de Imprio de las herramientas de la litografía de la impresión hoy en las Estrategias en conferencia del comercio de la Luz. El Sistema 1100 de la Litografía de la Impresión de la Precisión de Imprio es una alta producción, imprinter entero del fulminante diseñado para activar los dispositivos de la generación siguiente en un arsenal amplio de aplicaciones, incluyendo los diodos Electroluminosos (LED), los substratos del disco de alta densidad para las Unidades de Disco Duro (HDD), y los componentes ópticos que requieren modelar fino de la resolución y características tridimensionales. MII ha vendido y dos instalados de su nuevo Imprio 1100 sistemas y cuenta con varias ventas y colocaciones adicionales del sistema en 2007.

El mercado de la alto-brillantez LED, una de varias aplicaciones del mercado para nuevo Imprio 1100 de MII, se predice para duplicar durante los 5 años próximos impulsados por avances continuados en la creación, la extracción y la colección de luz. Muchas de las nuevas tecnologías más prometedoras, por ejemplo, quantum puntean para la generación pálida, substrato que modela para la extracción pálida y los cristales fotónicos para la colección pálida, requieren la capacidad de modelar características de la nanómetro-escala. El Imprio 1100 entrega modelar de poco costo de las características de sub-50nm en los substratos frágiles, no-planos encontrados común en la industria del semiconductor compuesto. Los mismos procesos de alta resolución se pueden también utilizar para modelar características más grandes como cumbreras del diodo láser y elementos ópticos difrangentes con fidelidad del modelo y mando sin precedentes del CD.

El Sistema 1100 de la Litografía de la Impresión de la Precisión de Imprio representa la generación siguiente en la litografía completo automatizada del nanoimprint que combina la resolución y el mando del CD de la litografía con la producción, papel del e-haz y operatorio simplicidad de un alineador de la máscara. El sistema se puede configurar para validar los tipos más de uso general del substrato y es ideal para el revelado avanzado, la producción experimental o la producción completa dependiendo de las opciones seleccionadas. MII demostrados, paso de progresión y procesos de la litografía de la impresión (S-FILTM), soporte de la fabricación del modelo, capacidad de la réplica del modelo, y cosechadora de destello de la experiencia de la aplicación producir una solución de poco costo de la litografía de la impresión con mejor en el costo de clase de la propiedad.

“MII ha hecho enorme progreso durante los 18 meses pasados que adaptaban el proceso de S-FIL, desarrollado originalmente para la litografía de la impresión del paso de progresión y de la repetición en los fulminantes del CMOS, a las necesidades específicas de la industria del semiconductor compuesto. MII puede ahora proporcionar a los procesos litográficos de llavero capaces de la alta producción y de la vida de proceso larga en las superficies frágiles, no-planas de los fulminantes de semiconductor compuesto.” Marca dicha Melliar-Smith, CEO de Impresiones Moleculares. “Además, la tecnología conformal de I-1100 S-FIL está proporcionando a una tecnología de activação para las aplicaciones de alta resolución similares como modelar del carril discreto y media modelados dígito binario para el revelado de la unidad de disco duro y las estructuras grating de la precisión para los componentes ópticos.”

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 16:13

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