Le Impronte Molecolari Annuncia il Sistema 1100 della Litografia dell'Impronta di Precisione di Imprio

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Molecular Imprints, Inc. (MII) ha rivelato oggi l'ultima aggiunta alla sua riga di Imprio di strumenti della litografia dell'impronta alle Strategie nella conferenza di commercio dell'Indicatore Luminoso. Il Sistema 1100 della Litografia dell'Impronta di Precisione di Imprio è un'alta capacità di lavorazione, intero imprinter del wafer destinato per permettere alle unità della generazione seguente in una vasta schiera delle applicazioni, compreso i diodi Luminescenti (LED), i substrati del disco ad alta densità per i Drive del Hard Disk (HDD) e le componenti ottiche che richiedono l'alto modello di risoluzione e le funzionalità tridimensionali. MII ha venduto e due installati del suo nuovo Imprio 1100 sistemi e prevede parecchi vendite e collocamenti supplementari del sistema nel 2007.

Il servizio di alto-luminosità LED, una di parecchie domande del mercato di nuovo Imprio 1100 di MII, è preveduto per raddoppiarsi nel corso dei 5 anni futuri determinati tramite gli avanzamenti continuati nella creazione, nell'estrazione e nella raccolta di indicatore luminoso. Molte delle nuove tecnologie di promessa, per esempio, quantum punteggiano per la generazione leggera, substrato che modella per l'estrazione leggera ed i cristalli fotonici per la raccolta leggera, richiedono la capacità di modellare le funzionalità del nanometro-disgaggio. Il Imprio 1100 consegna il modello redditizio delle funzionalità di sub-50nm sui substrati fragili e non piani incontrati comunemente nell'industria a semiconduttore composto. Gli stessi trattamenti di alta risoluzione possono anche essere usati per modellare le più grandi funzionalità come le creste del diodo laser e gli elementi ottici a diffrazione con la fedeltà del reticolo ed il controllo senza precedenti del CD.

Il Sistema 1100 della Litografia dell'Impronta di Precisione di Imprio rappresenta la generazione seguente in litografia completamente automatizzata del nanoimprint che combina la risoluzione ed il controllo del CD della litografia con la capacità di lavorazione, foglio di prova del e-raggio e gestente la semplicità di un aligner della maschera. Il sistema può essere configurato per accettare i tipi del substrato più comunemente usati ed è ideale per lo sviluppo avanzato, la produzione pilota o la produzione completa secondo le opzioni selezionate. MII provati, punto e modi di litografia dell'impronta (S-FILTM), supporto di montaggio del modello, capacità della replica del modello e associazione istantanei di competenza di applicazione produrre una soluzione redditizia di litografia dell'impronta con meglio nel costo di classe della proprietà.

“MII ha realizzato i progressi tremendi durante gli ultimi 18 mesi che adattano il trattamento di S-FIL, originalmente sviluppato per la litografia dell'impronta di ripetizione e di punto sui wafer di CMOS, ai bisogni specifici dell'industria a semiconduttore composto. MII può ora fornire i trattamenti litografici chiavi in mano capaci di alta capacità di lavorazione e di vita trattata lunga sulle superfici fragili e non piane dei wafer a semiconduttore composto.„ Segno detto Melliar-Smith, CEO delle Impronte Molecolari. “Inoltre, la tecnologia conforme di I-1100 S-FIL sta fornendo una tecnologia permettente per le simili applicazioni di alta risoluzione come il modello della pista discreta ed i media modellati bit per lo sviluppo del drive del hard disk e le strutture stridenti di precisione per le componenti ottiche.„

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 18:55

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